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    一般情况下，气体纯度选择应掌握以下原则，即微量分析比常量分析要求高，毛细管柱分析比填充柱分析要求高，程序升温分析比恒温分析要求高，二氧化碳厂家，浓度型检测器比质量型检测器要求高，配有甲丨烷装置的FID比单FID要求高，中高丨档仪器比低档仪器要求高。

    气相色谱中常用的载气有：氢气、氮气、氦气、氩气和空气。这些气体除空气可由空压机供给外，厂家，一般都由高压钢瓶供给。通常都要经过净化、稳压和控制、测量流量。

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  此类气体在充装时以及在允许的工作温度下贮运和使用过程中均为液态。包括的气体品种有一氟二氯甲烷、二氟氯甲烷、二氟二氯甲烷、二氟溴氯甲烷、三氟氯乙烷、四氟二氯乙烷、五氟氯乙烷、八氟环丁烷、六氟丙烯、氯、三氯化硼、光气、氟化氢、溴化氢、二氧化硫、硫酰氟、二氧化氮、液压石油气、丙烷、环丙烷、丙烯、正丁烷、异丁烷、1- 丁烯、异丁烯、顺- 2-丁烯、反- 2- 丁烯、R142b、R 143a、R152a、氯乙烷、二甲醚、氨、乙胺、一甲胺、二甲胺、***胺、甲硫醇、硫化氢、氯甲烷、溴甲烷、砷烷、1， 3—丁二烯、氯乙烯、环氧乙烷、乙烯基甲醚、溴乙烯。

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    青岛安泰科气体致力于环保 ----据安泰科气体企业负责人介绍，液氮厂家，公司虽然是传统行业的一份子，液氧厂家，但是近年来公司一直专于研发和开拓为环球热议的环保行业贡献一份力量。比如：氧气应用于污水处理、大气污染治理，应用于工业助燃有利于提高能效，低能减排；液氮应用于食品冷冻，取代有安全隐患的液氨；

    蚀刻气体　(Etch ing gases) ：蚀刻就是把基片上无光刻胶掩蔽的加工表面如氧化硅膜、金属膜等蚀刻掉， 而使有光刻胶掩蔽的区域保存下来， 这样便在基片表面得到所需要的成像图形。蚀刻的基本要求是， 图形边缘整齐， 线条清晰， 图形变换差小， 且对光刻胶膜及其掩蔽保护的表面无损伤和钻蚀。蚀刻方式有湿法化学蚀刻和干法化学蚀刻。干法蚀刻所用气体称蚀刻气体， 通常多为氟化物气体， 例如四氟化碳、三氟化氮、六氟乙丨烷、全氟丙丨烷、三氟甲丨烷等。干法蚀刻由于蚀刻方向性强、工艺控制精丨确、方便、无脱胶现象、无基片损伤和沾污， 所以其应用范围日益广泛。

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