磁控溅射镀膜- 泰科诺(图)-磁控溅射镀膜生产商




磁控溅射镀膜技术原理

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来,一直专注于真空设备的研发、制造,集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机,磁控溅射镀膜机,电子束蒸发镀膜机,多弧离子溅射镀膜机,热丝CVD设备,装饰镀膜机,硬质涂层设备等。

磁控溅射镀膜

真空磁控溅射镀膜技术是通过真空磁控溅射镀膜机实现的,镀膜机内由不同级别的真空泵抽气,在系统内营造出一个镀膜所需的真空环境,真空度要达到镀膜所需的本底真空,一般在(1~5)×10-8 Pa。在真空环境中向靶材(阴极)下充入工艺气体气(Ar),气在外加电场(由直流或交流电源产生)作用下发生电离生成离子(Ar+),同时在电场E的作用下,离子加速飞向阴极靶并以高能量轰击靶表面,使靶材产生溅射。在溅射粒子中,中性的靶原子(或分子)沉积在PET基片上形成薄膜。同时被溅射出的二次电子在阴极暗区被加速,在飞向基片的过程中,落入设定的正交电磁场的电子阱中,直接被磁场的洛伦兹力束缚,使其在磁场B的洛伦兹力作用下,以旋轮线和螺旋线的复合形式在靶表面附近作回旋运动。电子e的运动被电磁场束缚在靠近靶表面的等离子区域内,使其到达阳极前的行程大大增长,大大增加碰撞电离几率,使得该区域内气体原子的离化率增加,轰击靶材的高能Ar+离子增多,从而实现了磁控溅射高速沉积的特点。在运用该机理开发磁控膜的过程中,要注意以下几个问题:①保证整体工艺中各个环节的可靠性。具体包括靶材质量、工艺气体纯度、原膜洁净程度、原膜质量等基础因素,这一系列因素会对镀膜产品的***终质量产生影响。②选择合适的靶材。要建立的膜系是通过对阴极的前后顺序布置实现的。③控制好各环节的工艺性能及参数。如适合的本底真空度、靶材适用的溅射功率、工艺气体和反应气体用量与输入均匀性、膜层厚度等。总之,只有控制好以上各因素,才能够保证所开发的镀膜PET具有稳定的颜色、优异的性能和耐久性。

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磁控溅射设备的主要用途

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来,一直专注于真空设备的研发、制造,集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机,磁控溅射镀膜机,电子束蒸发镀膜机,多弧离子溅射镀膜机,热丝CVD设备,装饰镀膜机,硬质涂层设备等。

磁控溅射镀膜

磁控溅射设备的主要用途

(1)各种功能性薄膜:如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如,磁控溅射镀膜生产商,低温沉积氮化硅减反射膜,以提高太阳能电池的光电转换效率。(2)装饰领域的应用,磁控溅射镀膜哪家优惠,如各种全反射膜及半透明膜等,如手机外壳,鼠标等。(3) 在微电子领域作为一种非热式镀膜技术,主要应用在化学气相沉积(CVD)或金属有机(4)化学气相沉积(MOCVD)生长困难及不适用的材料薄膜沉积,而且可以获得大面积非常均匀的薄膜。(5) 在光学领域:中频闭合场非平衡磁控溅射技术也已在光学薄膜(如增透膜)、低辐射玻璃和透明导电玻璃等方面得到应用。特别是透明导电玻璃目前广泛应用于平板显示器件、太阳能电池、微波与射频屏蔽装置与器件、传感器等。(6)在机械加工行业中,表面功能膜、超硬膜,自润滑薄膜的表面沉积技术自问世以来得到长足发展,能有效的提高表面硬度、复合韧性、耐磨损性和抗高温化学稳定性能,从而大幅度地提高涂层产品的使用寿命。磁控溅射除上述已被大量应用的领域,还在高温超导薄膜、铁电体薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光材料、太阳能电池、记忆合金薄膜研究方面发挥重要作用。

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磁控溅射镀膜机

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来,一直专注于真空设备的研发、制造,集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机,磁控溅射镀膜机,电子束蒸发镀膜机,多弧离子溅射镀膜机,热丝CVD设备,装饰镀膜机,硬质涂层设备等。

磁控溅射镀膜

磁控溅射镀膜机

ITO 薄膜的磁控溅射靶主要分为InSn 合金靶、In2O3-SnO2 陶瓷靶两类。在用合金靶制备ITO 薄膜时,磁控溅射镀膜,由于溅射过程中作为反应气体的氧会和靶发生很强的电化学反应,靶面覆盖一层化合物,磁控溅射镀膜生产厂,使溅射蚀损区域缩得很小(俗称“靶***”) ,以至很难用直流溅射的方法稳定地制备出***的ITO 膜。也就是说,采用合金靶磁控溅射时,工艺参数的窗口很窄且极不稳定。陶瓷靶因能抑制溅射过程中氧的选择性溅射,能稳定地将金属铟和锡与氧的反应物按所需的化学配比稳定地成膜,故无***现象,工艺窗口宽,稳定性好。但这不等于说陶瓷靶解决了所有的问题,其薄膜光电性能仍然受制于基底温度、溅射电压、氧含量等主要工艺参数的影响,不同工艺制备出的ITO 薄膜的光电性能相差甚远。因此,开展ITO陶瓷靶磁控溅射工艺参数的优化研究很有意义。

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