哈槽试验是排除电镀故障中常用的方法，具有方便、快捷的特点。
其用途了解电镀液各成分对镀层的影响;
（1）工艺条件(浓度、温度、PH值，DK等)对镀层的影响;
（2）杂质对电解液性能及镀层的影响;
（3）添加剂对镀层的影响;
（4）确定处理有故障镀液的好方法。
排除电镀故障用赫尔槽试验时，试验条件应尽量作到与生产中的情况相一致，以免试验偏差导致错误判断，正确利用哈氏槽。在电镀过程中，由于各种动态参数的变化，这就决定了电镀故障发生率较高。为了不耽误生产，就必须对电镀生产过程中的故障能准确迅速地排除。要求电镀技术人员平时要仔细观察，不断总结积累大量排故经验。在电镀生产实践中，镀膜厂家，分析思维方法可以准确及时地排除一系列电镀故障，甚至可以运用一些思维分析来推断在某一电镀工序、某一电镀环节将要发生何种故障，而将其消除在萌芽状态，保证电镀生产的顺利进行。 另外，在出现了电镀故障后，技术人员***的一条就是不惊慌，东莞***镀膜厂，只有保持清醒的头脑，才有可能有效的开展故障分析与排除。凡是在电镀***上工作过的技术人员，都会有过出现故障就惊慌的体验。因为一条电镀生产线出现'故障'，跟着就出现了加工客户为自己的零件电镀报废影响生产进度而大呼小叫等情况。在这样的情况下，技术人员保持头脑冷静是非常重要的。 要准确确定故障是什么，是否出现了镀层漏镀或镀层起雾等现象。有时这些只是症状而不是问题的***。当然症状的存在有可能会引起电镀生产不正常等问题，实际上电镀过程中某一问题的症状，也是很实际的问题，需要在查找故障的同时必须处理解决。
真空镀膜
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。
蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。 对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且***终沉积在基片表面，经历成膜过程，***终形成薄膜。
随着人们生活水平的提高，手机的使用也越来越普遍，但是，手机在带给人们方便的同时，其辐射对人体的危害也日益凸现。研究表表明，手机产生的电磁波强度是空间电磁波的4到6倍。少数劣质手机产生的电磁波甚至达到空间电磁波百倍以上。
手机辐射可引发影响少年儿童的生长发育，严重的甚至会引发脑部问题。如何减轻手机辐射对人体健康的影响，已成为摆在我们面前的一个急需解决的问题。
应用手机真空镀膜技术，就可以较好地解决这个难题。真空镀膜是在原子水平上进行材料生成的技术，镀层的晶料度在10纳米左右，镀膜供应商，属于纳米材料的范畴。通过对手机壳内壁真空镀电磁防护膜层，可以极大地防止因电磁波辐射而对手机使用者造成的危害。由北京东明化学工业有限公司完成的硬课题“手机真空镀膜技术的研究”，镀膜，主要解决的是镀膜的工艺问题，包括电阻率、附着力、膜层表面光亮度以及复杂区域的膜层附着问题。
手机真空镀膜技术的研究与应用，不仅推动了手机制造业的发展，也推动了相关产业的发展。有电磁辐射的产品都可以应用这项技术进行电磁屏蔽，以对其使用性能进行优化，保护人类健康，保护环境。
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