UV光解净化有机废气处理方法主要是采用高能UV紫外线产生臭氧氧化
UV光解净化有机废气处理设备
UV光解净化有机废气处理方法主要是采用高能UV紫外线，在UV光解净化设备箱体内部，uv光解除味设备，裂解氧化恶臭物质的分子链，uv紫外光解，改变物质的分子组成部分，将高分子污染物质进行裂解、氧化为低分子无毒无害的物质，其脱臭净化的效率可97%，脱臭效果远远超过了国家1993年颁布的恶臭物质的排放标准（GB14554-93）。
UV光解***技术都能将其裂解，形成简单的、稳定的小分子化合物。所以该技术能广泛应用于有废气产生的行业，只需要废气成分的化学键键能低于UV光子能量，如、氨、、胺类、硫醇类、硫醚类、烃类系物等，能广泛应用于采油（气）田、污水处理厂、垃圾处理场、炼油厂、塑料厂、橡胶厂、化工厂、垃圾堆肥/焚烧厂、垃圾站、制药厂、皮革厂、造纸厂、喷涂厂、印刷厂、冶炼厂、食品加工厂、饲料加工厂等。
根据UV光解净化法的工作原理设计的光氧催化废气处理装置具有以下特点：
1、***除恶臭：能***去除挥发性有机物（VOC）、无机物、氨气、硫醇类等主要污染物，鱼台县光解，以及各种恶臭味，脱臭***可达到99%以上，脱臭效果大大超过国家1993年颁布的恶臭污染物排放标准（GB14554－93）。
2、无需添加任何物质：只需要设备设置相应的排风管道和排风动力，使恶臭气体通过本设备进行脱臭分解净化，无需添加任何物质参与化学反应。
利用UV光解净化法的原理制作出来的设备通常有：UV***光解净化设备、废气光解设备、光氧催化废气净化器、光催化空气净化器、光电除臭设备、光化学除臭设备、光催化除臭、光氧催化除臭设备、光催化设备、光解净化器、高能UV紫外线除臭、光催化降解装置、光触媒废气治理、光微波废气治理等等。
UV光解原理：
在波长范围170nm-184.9nm（704 kj/mol - 647 kj/mol） 紫外线的作用下，一方面空气中的氧气被裂解，然后组合产生臭氧（见反应①、②）；另一方面将恶臭气体的化学键断裂，使之形成游离态的原子或基团（见反应③）；同时产生的臭氧参与到反应过程中，使恶臭气体 终被裂解、氧化生成简单的稳定的化合物，如CO2、H2O、SO2、N2等（见反应④）。
注：
1、恶臭物质能否被裂解，取决于其化学键键能是否比所提供的UV光子的能量要低。
2、裂解反应的时间极短（＜0.01s），氧化反应（见反应）的时间需2-3s。
3、提供的UV光子总功率不够或者含氧量不足，会因为裂解或氧化不 而生成一些中间副产物，从而影响净化效率。对于高浓度大分子的有机恶臭物质体现得较为明显。
4、UV光解净化的长期稳定，需要反应温度＜70℃，粉尘量＜100mg/m3，相对湿度＜99％。
5、条件满足的情况下，UV光解净化的 高净化效率可达到99.9％以上。
UV光解废气处理设备使用注意事项：
UV光解废气处理设备维护工作中重要的就是箱体内部的UV灯管，因为工业除臭全靠UV灯管，UV光解除味器箱体内部安装数根灯光，连接到控制线路上，从而使灯管进行高温除味，这种设备由金珠率xian研发，并取得了良好的效果，但是切记UV光解除味器运行工作之后要进行保养。
第yi、一定要严格遵守废气处理工艺技术规程、安全规程和岗位操作规程，这些规程是组织生产与进行操作的基本法规，是从生产和科研实践中总结出来的规律性的东西。严格遵守这些法规是日常运行中重要的一条原则。
第二、务必要强调各工种的相互配合，生产中往往因废气处理设备辅助工作发生错误而影响生产的正常运行，如分析的错误将引起加料量和物料成分的改变；仪表的指示错误会欺骗操作人员，使得实际操作条件大大偏离工艺规程的要求。电器故障和设备故障也会引起生产的不正常。
第三、必须认真执行设备各项规章制度.
对于废气治理拥有很多年的经验，尤其是为工业除臭创新研发的UV光解除味器，不仅除味效果好，并且设备体积小，占地面积小，适合各个工况除味除臭使用。
这种UV光解废气处理设备不仅仅是成本低廉那么简单，而且它的运行的稳定性是非常可观的，不需要专人去看护，达到自动化的技术。大家都知道低温等离子体是第四种物质形态，如果当外加电压达到气体的放电电压的时候，气体就会被迅速击穿，uv光解废气处理设备厂家，这就包括了电子、各种离子、原子等等这些混合体，虽然放电的过程中电子温度是比较高的，但是对于那些重粒子的温度还是会很低，这样就使得整个电子体系都是呈现一种低温的状态，所以我们都会称为低温等离子体。
而UV光解废气处理设备也是利用同等的原理，使用UV紫外线光束和臭氧使得污染物分子会在很多的时间内去发生分解，***因为各种的反应从而能达到降解污染物的母的。而低温等离子体降解污染物也是如此，是利用这些高能的电子、自由基等等活性粒子去和废气中的污染物发生反应，从而达到降解污染物的目的。
