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钼溅射靶材用于磁控溅射镀膜，溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜(PVD)方式。

在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场，在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为Ar气)，在电场的作用下，Ar气电离成正离子和电子的，纯钼价格， 靶上加有一定的负高压，从靶极发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率增大，在阴极附近形成高密度的等离子体，Ar离子在洛仑兹力的作用下加速飞向靶面， 以很高的速度轰击靶面，使靶上被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜。

溅射镀膜的主要应用于：平板显示器、镀膜玻璃工业(主要包括建筑玻璃、汽车玻璃、光学薄膜玻璃等)、薄膜太阳能、 表面工程(装饰&工具)、（磁、光）记录介质、微电子、汽车车灯、装饰镀膜等。

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钼合金热处理一般应用再结晶退火和消除应力退火。再结晶退火用于挤压、锻造和热轧过程。消除应力退火是为了消除加工硬化。 由于再结晶退火使材料的塑性-脆性转变温度升高，不利于下一步加工，一般加工产品是以消除应力退火状态交货和使用的。

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钼合金应用电子管行业：用于电子管中与硼硅酸盐玻璃进行真空密闭连接的钼丝，特别是表面抛光的钼插脚；由钼丝制成的能承受巨大热应力的隔栅；用于改善电子发射特性的镀金钼丝；发射管、短波四极管、大功率四极管等电子管中的阳极、辅助阳极、阴极支撑元件及其它结构件；微波磁控管中的钼端帽和钼管脚等。

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