半导体超纯水设备、制药用水超纯水制备

半导体超纯水是美国科技界为了研制超纯材料（半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等）应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水。这种水中除了水分子(H20)外，几乎没有什么杂质，更没有细菌、病毒、含氯等有机物，当然也没有人体所需的矿物质微量元素。超纯水无硬度，口感较甜，又常称为软水，可直接饮用，也可煮沸饮用。超纯水,是一般工艺很难达到的程度，如水的电阻率大于18(没有明显界线)，则称为超纯水。

  工业超纯水是指化学药剂、化肥及精细化工、化妆品、电镀、电池(蓄电池)制造过程工艺纯水，纺织印染工艺所需的软化水及除盐纯水。  

   工业超纯水设备系统采用多介质过滤器、活性炭过滤器作及保安过滤器作为前级处理，有效除去原水中的悬浮物、泥砂、微粒、有机硅胶体、有机物、异味、余氯等杂质，使经过离子交换处理后的水质符合工业生产要求。在经过后端进行精处理系统（混床系统），使其产水水质满足生产用水的要求。

  电子工业超纯水概述

  半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，线宽越窄，对水质的要求也越高。   

.  制备电子工业超纯水的工艺流程

  采用反渗透设备与电去离子（EDI）设备进行搭配制备电子工业超纯水的的方式，这是一种制取超纯水的新工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺.

电子超纯水设备基本工艺流程为：原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→电去离子（EDI）→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点

     .电子工业超纯水的应用领域

   半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路成品、半成品用超纯水 

   超纯材料和超纯化学试剂勾兑用超纯水； 

   光学玻璃镀膜、光电子及光纤 

   超纯材料和超纯化学试剂 

   汽车、家电表面抛光处理；

超纯水设备离子交换的基本工作原理是：

a、首先电解质离子(钙、镁、铁、钠等离子)穿过液膜进入树脂表面;

b、离子进入树脂内部;

c、离子交换;

d、H离子或OH根离子向树脂外部扩散;

e、H离子或OH根离子进入水中形成H2O。双床又称复床，复床是用阳、阴两种不同的离子交换的交换器的串联方式，如强酸性阳离子交换树脂和强碱性阴离子交换树脂串联的方式。这种阳床和阴床串联组成的设备称为复床，水先经过阳床除去带正电的离子(如Ca2 、Mg2 、K 、Na )，并且置换出H 离子到水中;然后除去水中的阴性离子(如SO2-4、Cl-、HCO- 3)，并且置换出OH-离子到水中。同时，H 离子和OH-离子结合形成水H2O，从而达到去离子的作用。

本公司超纯水设备系统特点：

稳压范围宽，输入电压变动±20%仍可正常使用。

***，产品具有功率因素校正电路，功率因数可达0.98以上。

输出电压电流无级连续可调,稳压稳流自动切换.

负载由小至大值的稳流变化小于0.1%.

安全性能高,输出端可任意短接不会造成机器损坏,且短接电流可由零至大值连续调整.

采用***的高频脉宽调制技术,具有稳定度强、精度高，体积小、重量轻、功耗低等特点。