真空镀膜机操作程序

真空镀膜机操作程序具体操作时请参照该设备说明书和设备上仪表盘指针显示及各旋钮下的标注说明。① 检查真空镀膜机各操作控制开关是否在'关'位置。② 打开总电源开关，设备送电。③ 低压阀拉出。开充气阀，实验型真空蒸发镀膜设备***，听不到气流声后，启动升钟罩阀，钟罩升起。④ 安装固定钨螺旋加热子。把PVDF薄膜和铝盖板固定在转动圆盘上。把铝丝穿放在螺旋加热子内。清理钟罩内各部位，保证无任何杂质污物。⑤ 落下钟罩。⑥ 启动抽真空机械泵。⑦ 开复合真空计电源（复合真空计型号：Fzh-1A)。a.左旋钮“1”顺时针旋转至指向2区段的加热位置。b.低真空表“2”内指针顺时针移动，实验型真空蒸发镀膜设备，当指针移动至110mA时，左旋钮'1'旋转至指向2区段测量位置。⑧ 当低真空表“2”内指针再次顺时针移动至6.7Pa时，低压阀推入。这时左旋钮“1”旋转至指向1区段测量位置。⑨ 真空镀膜机开通冷却水，启动扩散泵，加热40min。⑩ 低压阀拉出。重复一次⑦动作程序：左下旋钮“1”转至指向2区段测量位置。低真空表“2”内指针顺时针移动，实验型真空蒸发镀膜设备品牌，当指针移动至6.7Pa时，开高压阀（阀杆顺时针旋转）。? 等低真空表“2”内指针右移动至0.1Pa时，开规管灯丝开关。a. 发射、零点测量钮“9”旋转至指向发射位置。b. 左下旋钮“1”旋转至指向1区段测量位置。? 旋转发射调节钮“4”，使高压真空表“5”内指针指向5。? 发射、零点、测量旋钮“9”旋转至指向零点位置。? 旋转零点调节钮“10”，让高压真空表“5”内指针指向0位置。? 发射、零点、测量旋钮“9”旋转至指向测量位置。? 旋转标准调节钮“3”，让高压真空表“5”内指针指向10。? 旋转“倍加器”开关钮“8”至指向10-12，当高压真空表“5”内指针逆时针左移超过1时，再把“倍加器”开关旋钮“8”旋转至指向10-3。? 当高压真空表“5”内指针逆时针移动超过6.7Pa时，开工件旋转钮开关，钟罩内被镀件PVDF膜转动。? 开蒸发钮开关。把电流分插塞插入蒸发电极分配孔内（设有1、 2、 3、 4孔，可插入任意一孔）。? 右手旋转右侧调压器手轮，慢慢旋转升压。a. 从视镜窗口观察钨螺旋加热子的加热温度颜色变化情况。b. 当钨螺旋加热子颜色变成黄橙色，铝丝开始熔化时，左手操作挡板钮，移开钨螺旋上方挡板。c. 铝丝全部熔化蒸发，挡板回原位。d. 右手旋转调压器手轮回零位。***次蒸镀工作完成。21. 如果再想蒸镀一次（为了增加电极金属层厚度）：把电流分插塞拨出插入另一个电极分配孔。重复?操作动作。22. 关闭规管灯丝开关。关闭高压阀（逆时针转手柄）。关闭工件旋转。关闭蒸发。旋转机械泵钮至指向扩散泵位置。23. 低压阀拉出。钟罩充气。充气一段时间，当没有气.声时，升钟罩。24. 钨螺旋加热子内加铝丝。PVDF薄膜调换另一面向下 （原下面已镀一层铝膜面向上）。紧固在转动圆盘上。25. 落钟罩。开机械泵。a. 左下旋钮“1”旋转至指向2区段测量位置。b. 当低压真空表“2”内指针顺时针移动到6.7Pa时，低压阀推入。c. 左下旋钮“1”旋转至指向1区段测量位置。d. 当低压真空表“2”内指针顺时针移动到6.7Pa时，开高压阀。旋钮“1”旋转至指向2区段测量位置。e. 当低压真空表“2”内指针顺时针移动到指向0.1Pa时，开规管灯丝。f. 由?开始重复操作至? 。26. PVDF薄膜蒸镀完铝层后，按顺序关闭规管灯丝、高压阀、机械泵、扩散泵。把低压阀拉出。钟罩充气，充气完毕后升钟罩。取出工件，做好钟罩内清理工作。a. 落下钟罩。b. 开机械泵，抽3~5min，停机械泵。c. 切断供电总开关。d. 1h后再关闭冷却水。操作全部完成。27. 正常生产中，如遇到突然停电时，要立即切断高真空测量，关闭规管灯丝，高压阀、低压阀拉出。来电后，先让机械泵启动工作3~5min后，再转入正常生产。实验型真空蒸发镀膜设备

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真空镀膜机的成品

真空镀膜机是一种***、多功能、全自动式真空镀膜机，具有结构合理，成膜质量好、抽速大、膜层均匀、生产***、工作同期短、操作方便，能耗低性能稳定等优点。真空镀膜制膜种类：半透明膜、不导电膜、金、银、红、蓝、绿、紫、七彩等。真空镀膜成品有：普通电镀亮面、哑面（半哑、全哑）、工艺电镀***、拉丝、雨滴、七彩等；镀制颜色有：金、银、红、蓝、绿、紫、七彩等等。

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北京泰科诺近20年行业经验，现货交付各种蒸发镀膜机，蒸发类产品市场占有率达80%以上;蒸发镀膜机可实现多元共蒸和分蒸，兼容有机蒸发与无机蒸发，功能强大，性能稳定.

ZHDS400手套箱蒸发镀膜系统  Thermal Evaporation System with Glove-box

产品特点 Product Features：

1. 工艺成熟，性能稳定，使用维护成本低；

2. 功能强大，兼容有机蒸发与无机蒸发，多元共蒸与分蒸；

3. 一体化设计，占地面积小，可独立或与手套箱集成使用；

4. 适用范围：用于实验室制备金属单质膜、半导体膜、有机膜等，也可用于生产线前期工艺试验；广泛用于钙钛矿太阳能电池、OPV有机太阳能电池、OLED薄膜等研究系统等等。

产品参数Product Parameters：

Thermal Evaportation System with Glove-box

Model: ZHDS400

Coating Method: Multi-source evaporation coating

Chamber Structure: Box-type front and rear door structure， equipped with glovebox

Chamber Size: L400×W440×H450mm

Baking Temperature: Room temperature to 300℃ (572℉)

Rotating Substrate: Holder120mm×120mm

Substrate Holder Lift: Manually adjust the lifting height between 0 to 80mm

Film Thickness Nonuniformity: ≤±5.0%

Evaporation Source: 2~3 Groups of metal sources， 2~4 groups of organic sources

Operation Method: PLC

Occupied Area: (Mainframe) L1100×W780×H1800mm， Glove-box size can be customized

Power: ≥10Kw

Product Features:

1. Integrated design， less occupied area， competitive price， stable performance and low maintenance costs;

2. Equipped with 4 to 6 groups of evaporation sources， compatible with organic evaporation and inorganic evaporation， multi-source co-evaporation obtain / partial evaporation obtain multi-layer film， powerful and stable performance;

3. Suitable for laboratory preparation of metal mono film， semiconductor film， organic film， also can be used for pre-production process test， etc.;

4. Suitable for organic combination of evaporation coating and glove box environment， to achieve evaporation，实验型真空蒸发镀膜设备报价， encapsulation， testing and other process seamless docking， widely used in perovskite solar cell / OPV organic solar cell， OLED film and other research systems， etc..

Application: It is widely used in the research and small batch preparation of new film materials for colleges & universities， research institutes and enterprises.

实验型真空蒸发镀膜设备

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