电子束蒸发与磁控溅射镀膜的性能分析

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机，磁控溅射镀膜机，电子束蒸发镀膜机，多弧离子溅射镀膜机，热丝CVD设备，装饰镀膜机，硬质涂层设备等。

电子束蒸发沉积

膜厚

严格控制发Al膜的厚度是十分重要的，因为Al膜的厚度将直接影响Al膜的其它性能，从而影响半导体器件的可靠性。对于高反压功率管来说，它的工作电压高，电流大，没有一定厚度的金属膜会造成成单位面积Al膜上电流密度过高，易烧毁。对于一般的半导体器件，Al层偏薄，则膜的连续性较差，呈岛状或网状结构，电子束蒸发沉积厂商，引起压焊引线困难，造成不易压焊或压焊不牢，从而影响成品率;Al层过厚，引起光刻时图形看不清，造成腐蚀困难而且易产生边缘腐蚀和“连条”现象。

采用电子束蒸发，行星机构在沉积薄膜时均匀转动，各个基片在沉积Al膜时的几率均等;行星机构的聚焦点在坩埚蒸发源处，各个基片在一定真空度下沉积速率几乎相等。采用磁控溅射镀膜方法，由于沉积电流和靶电压可以控制，也即是溅射功率可以调节并控制，因此膜厚的可控性和重复性较好，并且可在较大表面上获得厚度均匀的膜层。

Al膜厚度的测量可采用金属膜厚测量仪，它是根据涡流原理设计制造的无损测厚仪。根据工艺参数，我们制备了一批试样，样品经测试，溅射Al薄膜的平均厚度是1.825μm，电子束蒸发Al薄膜的平均厚度是1.663μm，均符合半导体器件电极对Al膜厚的要求(小信号为1.7±0.15μm;大功率为2.5±0.3μm。

为了更进一步地观测膜厚及表面形貌，样品放入环境扫描电子显微镜philipsXL30-ESEM中进行观测，并根据视频打印机输出的SEM图片可以看出，电子束蒸发的膜厚分散度较大，即均匀性较差。

想要了解更多，欢迎拨打图片上的电话吧！！！

电子束蒸发镀膜机冷却水路不顺怎么办

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机，磁控溅射镀膜机，电子束蒸发镀膜机，多弧离子溅射镀膜机，热丝CVD设备，装饰镀膜机，硬质涂层设备等。

电子束蒸发沉积

电子束蒸发镀膜机产生冷却水路不通畅或水压不够的情况，电子束蒸发沉积哪有卖，会导致冷却能力下降，致使扩散泵上半部分变热，油蒸汽不能良好液化。具体的解决办法将扩散泵进水管接以4mpa的气源，吹出水垢，接出水管同样保持4mpa。若水垢结的很多并且牢固，可通入稀盐酸或者更换扩散泵。

想要了解更多，欢迎拨打图片上的电话吧！！！

电子束蒸发镀膜机原理

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机，磁控溅射镀膜机，电子束蒸发镀膜机，多弧离子溅射镀膜机，热丝CVD设备，装饰镀膜机，硬质涂层设备等。

电子束蒸发沉积

原理：在高真空下，电子***灯丝加热后发射热电子，被加速阳极加速，获得很大的动能轰击到的蒸发材料上，电子束蒸发沉积生产厂，把动能转化成热使蒸发材料加热气化，而实现蒸发镀膜。电子束蒸发源由发射电子的热阴极、电子加速极和作为阳极的镀膜材料组成。电子束蒸发源的能量可高度集中，使镀膜材料局部达到高温而蒸发。通过调节电子束的功率，可以方便的控制镀膜材料的蒸发速率，特别是有利于高熔点以及高纯金属和化合物材料。

技术指标：

可在高真空下蒸发不同厚度的各种金属与氧化物薄膜，广泛应用于物理，生物，化学，材料，电子束蒸发沉积，电子等领域。

蒸镀薄膜种类：Au， Ti， Cr， Ag， Al， Cu， FeNi， AuGe， Pt， Pb， In， Mo， SiO2等

极限真空：5E-8 Torr（ 30分钟从 atm 抽到 5E-6 Torr ）

薄膜均匀性：±4% （ 4英寸 ）

装片：小于6英寸的任意规格的样品若干

想要了解更多，欢迎拨打图片上的电话吧！！！

电子束蒸发沉积生产厂-电子束蒸发沉积-北京泰科诺公司由北京泰科诺科技有限公司提供。电子束蒸发沉积生产厂-电子束蒸发沉积-北京泰科诺公司是北京泰科诺科技有限公司（）今年全新升级推出的，以上图片仅供参考，请您拨打本页面或图片上的联系电话，索取联系人：朱经理。