镀膜室的清理和蒸发材料的安装:

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机，磁控溅射镀膜机，电子束蒸发镀膜机，多弧离子溅射镀膜机，热丝CVD设备，装饰镀膜机，硬质涂层设备等。

电子束镀膜仪

镀膜室的清理和蒸发材料的安装:

3、将操作旋钮旋置于“磁力充气阀”，对钟罩进行充气。

4、待充气完毕后，将旋钮置于“钟罩升”，钟罩将会升起，当钟罩上升到适当位置时，将旋钮置于“关”，钟罩将会停止升起。

5、使钟罩绕立柱旋转移开，小心取下弹簧卡圈以及观察窗内侧玻璃，用钢丝球除去玻璃表面的铝镀层，并用水清洗。玻璃水清洗干净后，用吹风机吹干。吹风机应使用冷风，且倾斜着对着玻璃，防止损坏吹风机和玻璃。将吹干后的玻璃安装在观察窗内侧，并用弹簧卡圈固定。

6、清理镀膜室，将镀膜用的玻片用胶带粘贴在支架上，并将蒸发材料(本次实验蒸发材料为铝片)螺旋缠绕在编号为3、4处的钨丝上，电子束镀膜仪，再旋转挡板挡住蒸发源。

7、将旋钮置于“钟罩降”，使钟罩能与底座对齐完全密封。下降过程中要防止钟罩不正与支架等发生相碰、刮擦，且注意手不会被压伤。钟罩下降后，将旋钮置于“关”。

抽真空:

8、旋钮置于“机械泵”，并打开复合真空计，拉低阀使用“测量2”接通低真空测量监测钟罩内的气压变化，等待指针半偏，即真空镀膜机内压强下降到5Pa。

9、将旋钮置于“轰击”，接通轰击电路，电子束镀膜仪哪有卖，将轰击电流调至200mA，电子束镀膜仪生产厂家，轰击2分钟，并使用“测量1”检测压强变化。轰击使得室内分子电离，气压先升高后降低，透过观察室内观察可见室内呈紫色，有白点闪过。

10、轰击2分钟后，将电流调至0mA，并将旋钮置于“机械泵、扩散泵”，同时水笼头通冷却水，推低阀使用“测量2”，预热30分钟后开高阀。

11、待指针满偏到达0.1Pa后，切换量程接通高真空测量。过10分钟后，打开灯丝电源，待气压达到2×10-2Pa即可开始镀膜。

镀膜:

12、镀膜开始，接通蒸发源电极，旋钮置于“烘烤蒸发”，调节蒸发电压使得电流达到80A。蒸发时可根据钨丝的色温改变电流值的大小，且由于蒸发时钨丝温度升高电阻值升高，应不断调节保证电流值不变。

13、透过观测窗，当发现铝片开始熔化时旋转移开挡板，使铝蒸发上去。待钨丝上有黑色残留(氧化铝)时，旋转挡板挡住蒸发源，并降低电压使得电流变为0A。

14、接通另一蒸发源电极，重复步骤12、13。蒸发结束后，关蒸发，旋钮置于“机械泵”。

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请教关于磁控溅射镀膜和电子束镀膜的区别

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机，磁控溅射镀膜机，电子束蒸发镀膜机，多弧离子溅射镀膜机，热丝CVD设备，装饰镀膜机，硬质涂层设备等。

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这两个虽然都属于PVD，实际区别太大了，几乎没法比较，均匀性溅镀好，致密性溅镀好，沉积速率貌似是蒸镀高，具体建议楼主找相关书籍阅读。

一般蒸镀慢，附着力和致密性较溅镀差，颗粒尺寸较小，均匀性就看设备怎样了

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电子束蒸发镀膜和磁控溅射镀膜所得薄膜有什么区别？

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两种镀膜原理不同：

电子束蒸发镀膜：利用高能电子束轰击靶材，使材料表面产生很高的温度，由固态直接升华到气态，沉积到工件表面所形成的薄膜，主要运用在光学方面（如：眼镜片的增透膜，CCD镜头，光通讯方面等等）

磁控溅射镀膜：高能离子轰击靶材，电子束镀膜仪生产商，使靶材表面原子飞逸出来的过程称溅射，那么采用磁场控制后，溅射出来的原子或二次电子以轮摆线的形式被束缚在靶材表面，使得辉光维持而进行溅射，主要运用在装饰方面（如：钟表，手机外壳等金属表面）

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