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卧式扩散炉。炉膛呈水平放置的扩散炉。结构分为上下架。上架放置炉体，下架有温度控制器和可控硅装置，扩散炉生产厂家，其数目与炉管数目相同。

扩散炉用于大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件和光导纤维等行业的扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺。扩散工艺的主要用途是在高温条件下对半导体晶圆进行掺杂，即将元素磷、硼扩散入硅片，扩散炉多少钱，从而改变和控制半导体内杂质的类型、浓度和分布，以便建立起不同的电特性区域。

扩散炉种类很多，按每台炉子的炉管数可分为单管炉和多管炉；按结构形式可分为卧式和立式；按恒温区长度可分为大、中、小i三种，大型的恒温区可分为大、中、小i三种，扩散炉公司，大型的恒温区为600-400毫米，中型的为400-200毫米，小型的为200毫米左右。每台扩散炉只有一个炉管、一套温度控制器和可控硅装置的扩散炉。结构简单，但由于受半导体工艺车间净化面积的限制，一般多采用多管扩散炉。

进入21世纪，电子信息产业的持续高速发展激励和带动了集成电路产业的发展，这就为微电子产业发展提供了***广阔的发展空间，也为半导体***设备提供了巨大的市场潜力。

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