东莞市和川机械设备科技有限公司是中国较早从事冷光源曝光机研发制造的企业之一，是专注于冷光源精密曝光机系统的现代化企业。

中国半导体实现新突破：成功进军***首条5nm芯片制程生产线

另外，除了光刻机，蚀刻机也是半导体工艺中不可缺少的一步。据了解，合川机械，光刻机、蚀刻机和MOCVD等设备，一并被称为半导体工艺三大关键设备。刻蚀机作为芯片制造中的一种关键设备，合川机械公司，用来在芯片上进行微观雕刻，一定程度上决定了芯片制造的较高水平。然而，鲜为人知的是，我国国产刻蚀机水平早已优先世界。

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NXQ8000系列掩膜曝光机满足科学研究，工艺级生产等多领域的应用。完全采用非接触式100%标定系统，对晶圆和掩膜没有伤害，大大提高间隙精度

非接触式掩膜对准机maskaligner适合各种电子元器件，合川机械厂商，包括半导体，LED，LD，MEMS，传感器等。

NXQ8000系列掩膜曝光机主要是用于光刻胶曝光。光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。

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