公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

去胶刻蚀或离子注入之后，已经不再需要光刻胶作保护层，可以将其除去，称为去胶，分为湿法去胶和干法去胶。

光刻的优点

1、地控制形成形状的大小和样子

2、它可以同时在整个芯片表面产生外形轮廓。

缺点

1、  必须在平面上使用，在不平的表面上效果略差；

2、  对生产环境的清洁度要求极高！

在描绘时，制版价格，选用步进电机机描绘(stepper)，在其中有电子束和激光器之分，粒子束立即在有涂铬层的4-9“玻璃板上描绘，边沿起始点5mm，与电子束对比，其弧型更真实，图形界限与间隔更小。光掩膜有掩膜正版(reticlemask，也是称之为正中间掩膜，reticle做为企业译成光纤传感器)，用步进电机机反复将占比变小到mastermaks上，制版，运用到具体曝i光中的为工作中掩膜(workingmask)，工作中掩膜由mastermask复i制回来。 

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掌握丝印网版特点丝印网版确实由甚多化学品构成，成分比较复杂，并不是质朴的随便说说可表述得搞清楚。若使高倍显微镜，制版报价，会发觉甚多时丝印网版单是感色层及不一样成分的显影药膜都超出13层，而不一样药膜中间又会随時间及室内空气危害，令质量一落千丈。故大伙儿需先掌握丝印网版特点，才可把他们保存得更强。置于***的作法是﹕不必将丝印网版储放在太阳可立即照射的地区，制版哪家好，一起，环境湿度太高亦不适宜。因为太阳的供热会危害丝印网版药膜，使显像后的色彩造成转变。而太潮湿的气体亦会使丝印网版表层受水分及气体中的浮尘危害，使丝印网版的表层原膜造成转变和损伤。 

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