公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

光刻和刻蚀有什么不同？ 

这2个词是半导体材料加工工艺中的关键流程，必须相互配合剖面图解读，***i好自身找本半导体材料加工工艺的书看。“光刻”就是指在涂上光刻胶的圆晶（或是叫硅片）顶盖上事前搞好的光呆板，随后用紫外光隔着光呆板对圆晶开展必须時间的直射。基本原理就是说运用紫外光使一部分光刻胶霉变，便于浸蚀。“刻蚀”是光刻后，用浸蚀液将霉变的那一部分光刻胶浸蚀掉（正胶），圆晶表层就凸显集成电路工艺以及联接的图型。随后用另这种浸蚀液对圆晶浸蚀，产生集成电路工艺以及电源电路。

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光绘丝印网版规格涨缩根本原因1、溫度的危害在空气湿度下，光绘丝印网版的规格随之溫度的升高而涨大，溫度降低而变小，其热涨形变指数在18ppm/℃上下，换句话说当溫度产生1℃的转变时，50cm长的丝印网版会产生9um的转变(或20寸中的0.36mil).2、环境湿度的危害在相对性溫度下，丝印网版的规格随之环境湿度的升高而涨大，空气湿度的减少而变小，湿涨形变指数在10ppm/%RH右，换句话说当环境湿度度产生1℃的转变时，掩膜版，50cm长的丝印网版会产生5um的转变(或20寸中的0.20mil).3、胶卷在光绘前沒有历经预设因为胶卷生产制造时没法事先操纵胶卷中的环境湿度与每一装配车间的环境湿度相同，因而应用以前应先使其与办公环境超过均衡的情况。提议预设時间为12钟头，预设时务必开启胶卷的包装，使其与外部的气体充足触碰。

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光致抗蚀剂也被称为光致抗蚀剂。掩模板上的图案被转移到晶片表面顶层的光致抗蚀剂上，并且在后续工艺中保护下面的材料(蚀刻或离子注入)。光致抗蚀剂由光敏树脂、光引发剂、添加剂、溶剂等组成。其中，光敏树脂是光刻胶的关键成分。

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