二氧化硅靶材SiO2磁控溅射靶材

科研实验***二氧化硅靶材SiO2磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

产品介绍

      二氧化硅(SiO2)常温下为固体,不溶于水,是酸性氧化物,不跟一般酸反应。自然界中存在有结晶二氧化硅和无定形二氧化硅两种。结晶二氧化硅因晶体结构不同,分为石英、鳞石英和方石英三种。二氧化硅是制造玻璃、石英玻璃、水玻璃、光导纤维、电子工业的重要部件、光学仪器、工艺品和耐火材料的
原料,是科学研究的重要材料。
二氧化硅(SiO2)溅射靶可用于半导体,化学气相沉积(CVD)和物理气相沉积(PVD)显示器和光学应用。
二氧化硅(SiO2)的其他形状溅射靶材:圆盘,平板,台阶靶,定制
包装:二氧化硅(SiO2)溅射靶是真空密封的。
产品参数
中文名 二氧化硅       化学式 SiO2          熔点 1650±50℃
分子量 60.084          密度2.2 g/cm3      沸 点 2230℃
纯度 99.99%

北京京迈研材料科技有限公司
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