一氧化硅靶材SiO磁控溅射靶材
科研实验***一氧化硅靶材SiO磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料
产品介绍
一氧化硅(SiO)常温常压下为黑棕色至黄土色无定形粉末,难溶于水,熔点:1702°C,沸点:1880°C,密度2.13g/cm³,一氧化硅不太稳定,在空气中会氧化成二氧化硅膜而钝化,仅在高于1200℃才稳定;在氧气中燃烧,和水反应生成氢气。一氧化硅微粉末因极富有活性,可作为精细陶瓷合成原料,如氮化硅、碳化硅精细陶瓷粉末原料;用作光学玻璃和半导体材料的制备;在真空中将其蒸发,涂在光学仪器用的金属反射镜面上,作为保护膜;半导体材料的制备。
产品参数
中文名 一氧化硅 化学式 SiO 分子量 44.08
熔点 1702℃ 沸点 1880℃ 密 度 2.13g/cm3
纯度 99.99%