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水是重要的清洗剂，有着其它任何清洗剂无法替代的作用和地位。普通的水很容易从自然界中得到，水有很强的溶解力和分散力。但是水的表面张力大，在使用中需要添加表面活性剂，以减小表面张力，增加表面湿润性。在一般工业清洗中，TENIC清洗剂销售，酸，碱和水的配合比较常见，有些金属用水洗要加入防锈剂；在精密和超精密工业清洗中。大部分要求将水制成纯净水。通常以电阻率来衡量水纯度。半导体工业要求在18MΩ/cm以上。而TN型液晶生产10MΩ/cm就可以了。

半水基型清洗剂也叫准水基型清洗剂，是由高沸点溶剂及活性剂等组成如醇类，惠州TENIC清洗剂，有机烃类等。通常含有5%一20%的水分，一般不烧，但加温清洗时水含量控制不当，可能产生燃烧现象。半水基型清洗与溶剂洗有一些不同，它的清洗原理是剥离去除，而不是溶解。为了防止已经剥落的油污再附到被清洗物上，清洗液要连续地循环，TENIC清洗剂零售，并增加油水分离器。半水洗通常清洗效果很好，但运行成本较高，废液不能再生回收，重复使用，含COD（化学耗氧量）较高，需要进行废水处理。

使用水基清洗剂的清洗工艺1、机械搅拌清洗、2、浸泡清洗、3、喷淋清洗、4、超声波清洗、5、电解清洗等。碱性水基清洗剂，指PH值大于7的脱脂剂，如裕满实业弱碱性水基清洗剂WHC-2 碱性玻璃清洗剂WSG-130 PH值均为9，碱性水基清洗剂WP-751、WHC-5 碱性玻璃清洗剂WSG-100 PH值均为11。按稀释泡沫量分类1、无泡型2、低泡型3、高泡型

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水基l金属清洗剂的洗油率为98％，腐蚀合格，防锈性良好，在(60±2)cC下放置6h，化学稳定性好，具有一定的工业应用价值。该配方的特点是其环保性，如：烷l基糖苷表面活性剂可生物降解，无l毒，对环境无污染。

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