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在刻画时，采用步进机刻画(stepper)，制版厂家，其中有电子束和激光之分，激光束直接在涂有铬层的4-9“ 玻璃板上刻画，边缘起点5mm，与电子束相比，其弧形更逼真，线宽与间距更小。光掩膜有掩膜原版(reticle mask，也有称为中间掩膜，reticle作为单位译为光栅)，用步进机重复将比例缩小到master maks上，应用到实际曝光中的为工作掩膜(working mask)，工作掩膜由master mask复i制过来。

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光刻（英语：photolithography）是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含硅晶圆，还可以是其他金属层、介质层，制版哪家好，例如玻璃、SOS中的蓝宝石。

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光刻机的结构和工作原理：

　　光刻机的光源有：激光，紫外光、深紫外光、极紫外光。现在***技术是极紫外光。

　　下图是以激光为光源的光刻机简易工作原理图：

　　在制造芯片时，太仓制版，首先在晶圆（硅晶片）表面涂光感胶，再用光线透过掩模版（相当于芯片电路图纸的底片）照射硅片表面，被光线照射到的光感胶会发生反应。此后用特定溶剂洗去被照射或者未被照射的胶，电路图就印到硅片上。

　　此过程相当于木匠施工用墨斗放样、划线。

　　硅片上有了电路图的图样后，就轮到刻蚀机登场，刻蚀机相当于木匠的锯子、斧头、凿子、刨子。刻蚀机按图施工，在硅片表面雕刻出晶体管和电路。

制版厂(图)-制版公司-太仓制版由苏州优版光电有限公司提供。“光电材料,光刻掩膜版”选择苏州优版光电有限公司，公司位于：苏州工业园区星湖街328号崇文路国华大厦B418室，多年来，苏州制版坚持为客户提供好的服务，联系人：马经理。欢迎广大新老客户来电，来函，亲临指导，洽谈业务。苏州制版期待成为您的长期合作伙伴！