据碳化硅厂家了解，碳化硅微粉是应用较早、使用量较大的微粉之一，在目前市场销售耐火材料用的碳化硅微粉多采用机械粉碎法，其粒径约为1-5微米之间，而精细陶瓷所用碳化硅微粉制取则主要采取气相反应合成法，该法已有很成熟的工艺，碳化硅微粉，但是，由于传统的加热技术难以控制反应气体分子的时间，近年来又发展了以激光作为热源的气相合成法—激光诱发气相化学反应法，它不仅使用于碳化硅，同样也适用于制Si、Si3N4、B、B4C、ZrB2、TiO2、TiB2、Al2O3等微粉。

碳化硅主要有四大应用领域

应用范围

碳化硅主要有四大应用领域，即：功能陶瓷、耐火材料、磨料及冶金原料。碳化硅粗料已能大量供应，不能算高新技术产品，碳化硅微粉现货，而技术含量高 的纳米级碳化硅粉体的应用短时间不可能形成规模经济。

⑴作为磨料，可用来做磨具，如砂轮、油石、磨头、砂瓦类等。

⑵作为冶金脱氧剂和耐高温材料。

⑶高纯度的单晶，可用于制造半导体、制造碳化硅纤维。

主要用途：用于3—12英寸单晶硅、多晶硅、钾、石英晶体等线切割。太阳能光伏产业、半导体产业、压电晶体产业工程性加工材料。

用于半导体、避雷针、电路元件、高温应用、紫外光侦检器、结构材料、天文、碟刹、离合器、柴油微粒滤清器、细丝高温计、陶瓷薄膜、裁切工具、加热元件、、珠宝、钢、护具、触媒担体等领域。

生产工艺

粗 、中、细SiC的配方应为5：1：4。制造碳化硅原料一般选用黑色SiC，其化学成分如下：SiC 98.0%，游离C 0.5%，Fe 0.2%，游离SiO2 0.6%。由于结合方式不同，工艺过程有差异。不同结合方式的简要工艺是：

(1)氮化硅结合碳化硅：用粗、中、细碳化硅颗粒和细硅粉成型的坯体，在纯N2气体中，在1370℃产生一种以%26α-SiC为骨架和以%26α和%26β-Si3N4。为基质的氮化硅结合碳化硅。在基质中尚有少量残留硅和SiO2N2在制品中，这些组分的相对含量随制造工厂不同而异。

(2)结合碳化硅：将SiC、硅粉、炭粉按一定配比，碳化硅微粉多少钱，混合、成型，在1400℃还原气氛中烧成。在大多数情况下采用埋炭烧成。在烧成过程中，碳化硅微粉报价，产生一种以%26α-SiC为骨架，以细晶粒%26β-SiC为基质的%26β-Si3N4结合SiC砖。%26β-SiC是在烧成过程中，细硅粉与细碳粉反应生成的，这种产品也含有少量残留硅和碳。

(3)氧氮化硅结合碳化硅：这种砖配料时，细硅粉配比要少于碳化硅。

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