Pvd 即物理气相沉积，是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。

机械抛光是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸起部分而得到平滑面的抛光方法。

化学抛光是靠化学试剂对样品表面凹凸不平区域的选择性溶解作用消除磨痕、浸蚀整平的一种方法。

电解抛光实际上是利用电化学阳极溶解的原理对金属表面进行抛光的一种方法。

电镀是利用电解原理在某些金属或其它材料制件的表面镀上一薄层其它金属或合金的过程。

阳极氧化是指铝及其合金在相应的电解液和特定的工艺条件下，由于外加电流的作用下，在铝制品（阳极）上形成一层氧化膜的过程

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阳极氧化膜的结构阳极氧化膜由两层组成，氧化的，外层称为多孔层，较厚、疏松多孔、电阻低。内层称为阻挡层(亦称活性层)，较薄、致密、电阻高。多孔的外层是在具有介电性质的致密的内层上成长起来的。

(1)阻挡层阻挡层是由无水的AI2O3所组成，薄而致密，具有高的硬度和阻止电流通过的作用。(2)多孔的外层氧化膜多孔的外层主要是由非晶型的AI2O3及少量的r-AI2O3.H2O还含有电解液的阴离子。

氧化膜的孔径在100nm~200nm之间，氧化膜厚度10微米左右，孔隙率20%左右，孔距300~500nm之间。氧化膜的截面图表明氧化膜孔基本上是管状结构，氧化膜发生溶膜反应基本上是在孔的底部发生的。

氧化膜的绝大部分优良特性，如抗蚀、耐磨、吸附、绝缘等性能都是由多孔外层的厚度及孔隙率所决定的，然而这两者却与阳极氧化条件密切相关，因此可通过改变阳极化条件来获得满足不同使用要求的膜层。膜厚是阳极氧化制品一个很主要的性能指针，其值的大小直接影响着膜层耐蚀、耐磨、绝缘及化学着色能力。

阳极氧化膜的性质与应用阳极氧化膜具有较高的硬度和耐磨性、极强的附着能力、较强的吸附能力、良好的抗蚀性和电绝缘性及高的热绝缘性。由于这些特异的性能，使之在各方面都获得了广泛的应用。

主要用途有：（1）提高零件的耐磨、耐蚀性、耐气候腐蚀。（2）氧化生成的透明膜，可以着色制成各种彩色膜。（3）作为电容器介质膜。（4）提高与有机涂层的结合力。作涂装底层。（5）作电镀、搪瓷的底层。（6）正在开发的其它用途，太阳能吸收板、超高硬质膜、干润滑膜、触媒膜、纳米线、在多孔膜中沉积磁性合金作记忆元件。

（一）阳极氧化处理的一般原则，在铝或铝合金产品的电解质溶液中的阳极氧化膜的阳极1代的一般概念，通过电解过程中，在表面上形成的氧化铝膜，称为阳极氧化的铝及铝合金加工。在电解液中的化学稳定性高的材料为阴极的器件，如铅，不锈钢，铝等。铝阳极氧化的原理实质上就是水电解的原理。当电流通过时，释放出氢气在阴极，阳极，降水量；氧不仅是氧分子，包括原子氧   （O）和离子氧，通常与分子氧的反应。铝的阳极氧化的氧沉淀，无水的氧化铝膜的形成，产生的氧气并不是所有与铝反应，部分沉淀的气体。阳极氧化膜的2选择，阳极氧化电解溶液生长是一个先决条件，对薄膜的影响应该是溶解的电解质。但这并不是说在所有现有的溶解在电解液阳极氧化可膜氧化膜的性质或产生相同的。

（二）汽蚀，型阳极氧化，40干涉膜3的阳极氧化电流形式分为：直流阳极氧化，交流电阳极氧化，脉冲电流。按电解质：硫酸，草酸，铬酸，自然着色阳极氧化混酸和磺酸基的有机酸溶液。

铝氧化加工分为：普通膜，硬质膜（膜），阻挡层，阳极氧化陶瓷膜，光亮修饰层，半导体的影响。

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