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跟着节能减排政策的建议，人们对低辐射镀膜玻璃提出更高的要求。普通用于出产镀膜玻璃的镀膜段出产的产物已经不能满意人们提出的更高要求。大面积磁控溅射镀膜出产线包括很多构成部门，中岳钛金，个中焦点区域是镀膜高真空区的工艺部署，即镀膜段。现有技能中存在真空情况差、冷却结果低会严重影响制备的膜层质量。

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蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后，加热坩埚使其中的物

质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间（或决定于装料量），并与源和基

片的距离有关。对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，

以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1～0.2电子伏。

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