氧化镁单晶是以高纯氧化镁为原料，在生产高纯电熔镁砂过程产出的高纯氧化镁单晶体，MgO含量在99.90%以上，体积密度大于3.5g/cm3。氧化镁（MgO）单晶基片广泛应用在多个薄膜技术领域中。用于制作磁学薄膜、半导体薄膜、光学薄膜和高温超导薄膜等，也可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。一种氧化镁晶体粉制备方法，使用高纯氧化镁为原料，采用球磨水化获得浆体，球磨水化的用水量与氧化镁的重量比大于1:2，水化温度在50～100℃之间。

氧化镁有高度耐火绝缘性能。经1000℃以上高温灼烧可转变为晶体，升至1500 - 2000°C则成死烧氧化镁(也就是所说的镁砂)或烧结氧化镁。氧化镁(Mg0)是一种重要的金属氧化物陶瓷材料，它具有高的熔点(~2830℃)、较低的密度(358gcm3)、较高的断裂模数等性质，被广泛用作高温耐火材料，氧化镁晶体批发，涂料等。经1000℃以上高温灼烧可转变为晶体，升至1500℃以上则成死烧氧化镁或烧结氧化镁。

白色或淡黄色粉末，无臭、无味，本品不溶于水和乙醇，熔点2852℃，沸点3600℃，氧化镁有高度耐火绝缘性能。由于氧化镁良好的电绝缘性和耐腐蚀性等功能特性，可以制成透明陶瓷、发光品体，催化剂等，同时它还是一种优良的薄膜生长基质材料。纯氧化镁一般是纯度非常高的氧化镁，其制备工艺一般有气相法，即将高纯度金属镁和氧反应生成晶核，然后 使颗粒继续成长，制得高纯度微粉氧化镁。

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