无论监控仪精度怎样，它也只能控制真空室里单点位置的膜厚，一般来讲是工件架的中间位置。如果真空电镀设备此位置的膜厚不是均匀的，那么远离中心位置的基片就无法得到均匀的厚度。虽然屏蔽罩能消除表现为长期的不均匀性，但有些膜厚度的变化是由蒸发源的不稳定或膜材的不同表现而引起的，所以几乎是不可能消除的，但对真空室的结构和蒸发源的恰当选择可以使这些影响较小。

Parylene是美国Union Carbide Co.公司在六十年代推出的一种气相沉积高分子聚合物材料，由的真空气相沉积工艺制备，气相沉积设备厂家，能涂敷到各种形状的表面，号称“无孔不入”，被业内称为好的防潮、防霉、防腐、防盐雾的特殊防护涂层。Parylene可分为N型、C型、D型、F型、HT型等多种类型

现在，系统的平均尺寸规格已经在降低，而应用小规格设备进行光学镀膜的生产也已经转变成为纯技术问题。

真空镀膜设备，主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，气相沉积设备厂商，磁控溅射，MBE分子束外延，气相沉积设备，PLD激光溅射沉积等很多种。维护真空镀膜机不可少的一个环节，当发现真空镀膜机腔体漏气的时候，能及时排查处理，显得非常得重要。一般真空室内漏气都是从室壁上的一些小孔或部件之前的连接位细缝中产生，当抽气系统抽气后使真空室内压强下降，外部与内部的压强差使气体从压强高的外部流向压强低的真空室内，造成真空度下降。

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，包括真空离子蒸发镀膜机、磁控溅镀膜机射、MBE分子束外延镀膜机和PLD激光溅射沉积镀膜机等很多种。真空镀膜机对于溅射类镀膜，气相沉积设备公司，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，蒸发或溅射出的成膜材料是在一般磁控溅射条件下与待镀工件形成膜的过程。无论是金属、合金、化合物、陶瓷还是有机物，都可以气相沉积各种金属膜和介质膜，不同的材料可以同时气相沉积得到多层膜。

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