电子束蒸发镀膜机的技术特点

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1、样品台：水冷样品座，样品座高度可调，便于调整蒸距。调节范围：样品台与基片的可调节范围300mm.

2、电子：电子功率6kW可调（满足金属、绝缘材料高速蒸发）4穴水冷坩埚（适用于对多种材料进行蒸发镀制多层膜且膜层较薄工艺中应用效果好）。为保持E型电子蒸发绝缘稳定性，配制束流扫描控制器，具有多种供控制程序进行选择的预设模式，方便于操作、实验数据积累。配套相应蒸发坩埚内衬，分子束外延设备报价，以适应不同材料，确保蒸发速率稳定性，重复性.

电子束镀膜机介绍

* 带旋转的倾斜沉积

* 行星式基片夹具

* 基片RF/DC偏压

* 基片清洗的离子源以及离子辅助蒸镀

* 附加物理沉积源（热蒸镀，分子束外延设备公司，磁控溅射）

* 用于反应蒸镀的MFC

* 不同的泵组选择，可升级分子泵为冷泵，分子束外延设备，前级泵为干泵

* 进样室和自动上下片/可支持单片和25片片夹

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电子束蒸发镀膜的优势

电子束蒸发的优点在于：电子束的光斑可以随意调整，可以一多用，灯丝可以隐藏，避免污染，可以蒸发任意镀膜材料，维修方便，分子束外延设备价格，蒸发速度可以随意控制，材料分解小，膜密度高。机械强度好。

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