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脉冲激光沉积原理

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脉冲激光沉积原理:在真空环境下利用脉冲激光对靶材表面进行轰击,利用激光产生的局域热量将靶材物质轰击出来,脉冲激光沉积设备公司,再沉积在不同的衬底上,从而形成薄膜。



脉冲激光沉积的原理

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脉冲激光沉积技术适合做的薄膜包括各种多元氧化物,氮化物,硫化物薄膜,金属薄膜,磁性材料等。

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脉冲激光沉积介绍

脉冲激光沉积,脉冲激光沉积设备,是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材,生成与靶材组成相同的薄膜。PLD 的之处是能量源(脉冲激光)位于真空室的外面。这样,在材料合成时,工作压力的动态范围很宽,达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度,可以合成一系列具有功能的纳米结构和纳米颗粒。

另外,PLD 是一种“数字”技术,在纳米尺度上进行工艺控制(A°/pulse)。

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