磁控溅射机-磁控溅射机报价-沈阳鹏程(推荐商家)





卧式磁控溅射镀膜机

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主要用途:  

用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料科研与小批量制备。  

系统组成:  

主要由真空室系统溅射室、靶及电源系统、样品台系统、真空抽气及测量系统、气路系统、控制系统、电控系统、计算机控制系统及辅助系统等组成。



直流磁控溅射技术的原理

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直流磁控溅射技术其原理是:在磁控溅射中,由于运动电子在磁场中受到洛仑兹力,它们的运动轨迹会发生弯曲甚至产生螺旋运动,其运动路径变长,磁控溅射机,因而增加了与工作气体分子碰撞的次数,磁控溅射机报价,使等离子体密度增大,从而磁控溅射速率得到很大的提高,磁控溅射机多少钱,而且可以在较低的溅射电压和气压下工作,降低薄膜污染的倾向;另一方面也提高了入射到衬底表面的原子的能量,因而可以在很大程度上改善薄膜的质量。同时,磁控溅射机价格,经过多次碰撞而丧失能量的电子到达阳极时,已变成低能电子,从而不会使基片过热。因此磁控溅射法具有“高速”、“低温”的优点。



磁控溅射系统介绍

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真空泵和测量装置:

低真空:干泵和convectron真空规

高真空:涡轮分子泵,低温泵和离子规

5.控制系统:

硬件:PLC和计算机触摸屏控制

自动和手动沉积控制

主要特点:

射频电源:基底预先清洗和等离子体辅助沉积

温度控制器:基底加热

大面积基底传送装置

冷却系统



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