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二次电子的能量低,受局部电场的影响变化大

二次电子的能量低,受局部电场的影响变化大,如图a所示的颗粒在电子束的照射下因充了负电子而发白,在这发白的颗粒周围感应了正电荷,迪庆扫描电镜测试,而感应了正电荷的区域导致二次电子的发射量减小,使颗粒周围明显变暗。由于二次电子像分辨力高、阴影效应不明显、景深深、立体感强,扫描电镜测试费用,所以它是扫描电镜中主要的成像方式。它特别适用于观察和分析起伏较大的粗糙面,如金属、陶瓷和塑料等材料的断口,所以在材料学科中扫描电镜得到了广泛应用。


二次电子像的衬度主要取决于试样的表面形貌

二次电子的发射率随原子序数的变化不是很明显,如图a所示,它主要取决于试样的表面形貌。它是入射电子与试样中核外电子碰撞,使试样表面的核外电子被激发出来所产生的电子。当这些代表试样表面结构特征的电子被相应的探测器收集后作为扫描电镜的成像信号,其所成的像就称为二次电子像。二次电子像的衬度主要取决干试样表面与入射电子束所构成的倾角,而对于表面有一定形貌的试样,其形貌被看成由许许多多与入射电子束构成不同倾斜角度的微小形貌,如凸点、尖峰、台阶、平面、凹坑、裂纹和孔洞等细节所组成。


当扫描电镜的电子束轰击试样表面时,电子束会进入试样内部,产生散射现象,电子束在散射后会改变前进方向,而且还会损失部分能量,随之而来产生各种其他信息,如热、俄歇电子、X射线、可见光、二次电子、背散射电子等。

当入射电子与试样相互作用后,其中有一部分电子会返回表面逸出,扫描电镜测试机构,则这部分被返回表面逸出的原入射电子被称为背散射电子。在实际成像过程中,通常以能量大小对电子信息进行分类,能量大于50eV而小于入射束能量E0的电子称为背散射电子,大部分背散射电子的能量约为原入射能量E0的0.7~0.9倍。利用背散射电子来成像所获得的图像称为背散射电子像。背散射电子像在电镜成像中的使用率和图像的分辨力也都比较高,仅次于一次电子像。


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