二次电子的能量低，受局部电场的影响变化大

二次电子的能量低，受局部电场的影响变化大，如图a所示的颗粒在电子束的照射下因充了负电子而发白，在这发白的颗粒周围感应了正电荷，而感应了正电荷的区域导致二次电子的发射量减小，使颗粒周围明显变暗。由于二次电子像分辨力高、阴影效应不明显、景深深、立体感强，所以它是扫描电镜中主要的成像方式。它特别适用于观察和分析起伏较大的粗糙面，如金属、陶瓷和塑料等材料的断口，投射电镜分析费用，所以在材料学科中扫描电镜得到了广泛应用。

从电子中发射出高能电子束撞击样品表面，与原子的内层电子发生

从电子中发射出高能电子束撞击样品表面，与原子的内层电子发生非弹性散射作用时，投射电镜分析哪家好，使原子发生电离，从而使原子失去一个内层电子而变成离子，并在该电子层对应位置产生一个空穴，原子为了恢复到稳定态，较外层的电子就会填补到这个空穴，在填补过程中同时会产生具有特征能量的X射线，探测器接收到这些特征X射线后，河北投射电镜分析，经过分析处理转换得到谱图和分析数据输出。

当以背散射电子为调制信号时，由于背散射电子能量比较高，穿透能力强，可从样品中较深的区域逸出(约为有效作用深度的30%左右)。在此深度范围，入射电子已有了相当宽的侧向扩展，所以背散射电子像分辨率要比二次电子像低，一般在500～2000nm左右。

扫描电镜能谱一体机标配光学导航功能，点击感兴趣的区域，在数秒内既可以得到样品微观形貌信息，点击切换至能谱软件界面可快速得到该区域的表面元素分布信息。扫描电镜能谱软件可以使用户实现多点分析，灵活检测样品的元素组分。同时，该软件还支持元素分析线扫、面扫功能。优化精简的操作界面可以帮助用户更方便地收集、导出分析数据。

扫描电镜是用聚焦电子束在试样表面逐点扫描成像。试样为块状或粉末颗 粒，成像信号可以是二次电子、背散射电子或吸收电子。其中二次电子是主要的成像信号。

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