扫描电子显微镜SEM 基本参数
放大率：通过控制扫描区域的大小来控制放大率的。如果需要更高的放大率，电镜分析哪家好，只需要扫描更小的一块面积就可以了。放大率由屏幕/照片面积除以扫描面积得到
场深：扫描电子显微镜SEM中，位于焦平面上下的一小层区域内的样品点都可以得到良好的会焦而成象。这一小层的厚度称为场深，通常为几纳米厚，所以，SEM可以用于纳米级样品的三维成像。
工作距离：工作距离指从物镜到样品高点的垂直距离。如果增加工作距离，可以在其他条件不变的情况下获得更大的场深。 如果减少工作距离，电镜分析机构，则可以在其他条件不变的情况下获得更高的分辨率。通常使用的工作距离在5毫米到10毫米之间。
二次电子像的衬度主要取决于试样的表面形貌
二次电子的发射率随原子序数的变化不是很明显，电镜分析费用，如图a所示，它主要取决于试样的表面形貌。它是入射电子与试样中核外电子碰撞，使试样表面的核外电子被激发出来所产生的电子。当这些代表试样表面结构特征的电子被相应的探测器收集后作为扫描电镜的成像信号，其所成的像就称为二次电子像。二次电子像的衬度主要取决干试样表面与入射电子束所构成的倾角，而对于表面有一定形貌的试样，其形貌被看成由许许多多与入射电子束构成不同倾斜角度的微小形貌，丽江电镜分析，如凸点、尖峰、台阶、平面、凹坑、裂纹和孔洞等细节所组成。
在目前微观形貌的分析研究中，随着半导体器件等高新技术的发展，往往要求对表面的细微结构能够更深入地观察和了解，因此发展高分辨力的电镜一直是生产厂商和用户们所追求的共同目标。要获得一张清晰、高分辨的照片，不仅要有一台性能***的高分辨力扫描电子显微镜，而且还取决于试样自身的特征和操作人员的工作经验，即要考虑以下几种因素：
（1）入射电子束的束流密度要足够大，而且稳定→电子源的发射问题。
（2）入射电子束的束斑是否足够细、足够旋转对称（圆），涉及电子透镜的设计、加工和装配水平，以及镜筒受污染的影响程度等→探针的形成问题。
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