抛光机操作的关键是要设法得到*大的抛光速率，以便尽快除去磨光时产生的损伤层。同时也要使抛光损伤层不会影响*终观察到的组织，即不会造成假组织。前者要求使用较粗的磨料，新乡抛光机，以保证有较大的抛光速率来去除磨光的损伤层，但抛光损伤层也较深；后者要求使用*细的材料，使抛光损伤层较浅，但抛光速率低。

解决这个矛盾的*好的办法就是把抛光分为两个阶段进行。粗抛目的是去除磨光损伤层，这一阶段应具有*大的抛光速率，粗抛形成的表层损伤是次要的考虑，不过也应当尽可能小；其次是精抛(或称终抛)，其目的是去除粗抛产生的表层损伤，使抛光损伤减到*小。抛光机抛光时，试样磨面与抛光盘应绝i对平行并均匀地轻压在抛光盘上，注意防止试样飞出和因压力太大而产生新磨痕。同时还应使试样自转并沿转盘半径方向来回移动，抛光机生产，以避免抛光织物局部磨损太快在抛光过程中要不断添加微粉悬浮液，使抛光织物保持一定湿度。

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打磨抛光机对技能有哪些要求

1、等离子抛光设备平板*多的制成圆形和正方形较多，可以取得工件外表超卓的平面度与平行度。长方形平板很少。

2、为了可以确保等离子抛光设备东西具有安稳的准确的几许形状，需求央求抛光东西要有超卓的耐磨功用，抛光机生产厂家，这种加工厂加工铸铁，铝合金材料较多。

抛光机常用的抛光方式

电解抛光方式

电解抛光的基本原理与化学抛光相同，即靠选择性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。与化学抛光相比，可以消除阴极反应的影响，效果较好。电化学抛光过程分为一下两步：

（ 1 ）宏观整平 溶解产物向电解液中扩散，材料表面几何粗糙下降， Ra ＞ 1 μ m 。

（ 2 ）微光平整 阳极极化，表面光亮度提高， Ra ＜ 1 μ m 。

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