我国光学平台仪器的不断发展和功能的不断完善为现代光学平台仪器向更品质的智能发展创造了条件。未来10年，更多的新技术、新器件推广应用，因而在光机电仪一体化的基础上融入不同原理，派生出新用途的产品，以满足各领域日益增长的需求。具有优异性能的光学平台器件和功能材料的开发和应用，将加速现代光学平台的不断发展，使光学平台设备领域发生重要变革，推动产品向小型化、高分辩、光电化和自动化发展。未来光学平台仪器发展方向将是简化设计，应用高精度隔度隔振，提高智能化和便于操作。

学实验平台使用时应保持清洁，避免各种污染，使用期间不要对着仪器说话有助于防尘、使用时注意防震；测量时动作要轻缓，尽量使身体部位离开实测量时动作要轻验台面，以防震动；所用的光学元件比较精密，不能用手触摸光学元件光学表面。能用手触摸光学元件光学表面。所有光学元件固定在光学支架上时，置要放正，气浮隔振平台定制，固定螺丝不要旋得过紧，以防镜片受压要放正，固定螺丝不要旋得过紧，不要旋得过紧变形和损坏。实验完毕，应将所有光学元件取下，变形和损坏。实验完毕，应将所有光学元件取下，按顺序放回光学附件盒中。按顺序放回光学附件盒中。

我们知道，光学平台台面，若为达到高平面度，通常需要反复磨削，在加工过程中，多次磨削容易使材料产生形变，为了减少形变，通常要加厚台面，但我们通过振动恢复时间的说明已经知道，台面加厚质量增加，平台的振动恢复时间往往成倍（甚至几倍）增加，在很多精密光学实验中，这是不可接受的。 对于平台上的光学元件来说，平面度引起的高度差，通常可以忽略不计，若确有必要考虑高度差，则完全可以通过卓立精密调整的位移台来实现。综上所述，光学平台的平面度，同光学平台的隔振性能不相关，只能做为光学平台的一个辅助指标，供参考。

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