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表面处理工艺——真空电镀:物理气相沉积(PVD),即在真空下将原子打到靶材表面上达到镀膜的目的。运用于光学镜片,如航海望远镜镜片,后来随着技术的改进,不锈钢电镀,延伸到了唱片、磁盘、光盘、手机外壳、机械刀具等材料上的装饰镀膜、材料表面改性等。适用材料:几乎所有金属、合金、及陶瓷材料。自然材料会影响真空环境,不适合真空电镀。
真空电镀工艺流程复杂,非常依赖人工操作。工件(靶材)需要喷涂、装卸、再喷涂,并且也取决于工件的复杂度和数量,所以人力成本很高。
电镀
真空蒸发镀工艺流程工件>镀前处理>装件>烘烤>离子轰击>预熔>蒸发沉积>冷却>取件>后处理>成品真空溅射镀工艺流程工件>镀前处理>装件>抽真空>烘烤、轰击>预熔>溅射沉积>冷却>取件>后处理>成品真空离子镀工艺流程工件>镀前处理>装件>抽真空>烘烤>离子轰击>离子沉积>冷却>取件>后处理>成品
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