EMI屏蔽镀膜机
PVD真空镀膜机
磁控溅射镀膜机
PVD真空镀膜设备
屏蔽膜真空镀膜机
EMI屏蔽PVD镀膜机
EMI屏蔽真空镀膜机
EMI涂层真空镀膜机
屏蔽涂层真空镀膜机
功能型真空镀膜设备
磁控蒸发双用镀膜机
PVD磁控溅射镀膜机
EMI屏蔽真空电镀设备
EMI屏蔽真空镀膜设备
功能性真空镀膜设备 - 磁控溅射镀膜机 - EMI屏蔽真空镀膜机
设备介绍
电磁干扰(EMI)屏蔽金属器的应用。
其他需要电磁干扰屏蔽功能的行业
真空镀膜设备
1、蒸汽喷射泵
喷射真空泵工作原理:蒸汽喷射真空泵有一定压强的工作的真空泵设备,蒸汽通过拉瓦尔喷咀,减压增速,蒸汽的势能转变为动能并以超音速喷入混合室,与被抽介质混合,进行能量交换,混合后的气体进入扩压器,减速增压,纳米电镀技术,动通转化为压强能,为了减少后级泵的抽气负荷,配置冷凝器,通过有一定温差的两种介质对流,进行热交换,达到冷凝高温介质目的,排到大气压。
2、湿式泵:液环真空泵
在圆形泵体(A)内,在相对于泵体中心线为偏心的轴上装有一个叶轮(B)。转动的叶轮的离心作用迫使工作液通过通道(D)流向腔体周边形成环流(C)。
泵起作用时,纳米电镀设备厂家,被输送的气体混合物经过中间板(E)上的吸入口(H)进入叶轮,小型纳米电镀设备,在泵入口处形成真空。气体混合物充入位于液环内径和叶轮叶片根部之间的叶轮腔内。当叶轮转动时,叶轮叶片浸没在液环中的程度增加,而使液环和叶轮叶片根部之间的容积减少。结果是气体混合物受到压缩,直至到达中间板中(K)的排放口(J)。气体混合物通过排放口排出。
在压缩循环过程中,热传递到液环。为了使温度保持在工作液的蒸发点以下,必须进行冷却。通过连续不断地向液环添加冷的工作液来达到冷却的目的。添加的工作液量与经过排放口与压缩气体混合物一起排放的工作液排放量相等。气体混合物和工作液终经过泵出口进行分离。
3、干式泵
干式抽真空:没有工业生产液流的污染;
深度真空,运转更灵活;
无废水,无污染,(较少或)无废弃物处理费用;
磁控溅射电源
从输出波形看,纳米电镀,伴随着磁控溅射技术本身的发展,经历了直流、单极性脉冲、对称双极性脉冲(中频磁控溅射电源)和双极性脉冲(非对称中频磁控溅射电源)几种方式。目前,新的磁控溅射电源基本上都采用高频逆变开关电源技术制造,中频磁控溅射电源已成为新的磁控溅射设备的电源。为了准确控制膜层厚度,磁控溅射电源必须稳定工作,并具有较好的恒定特性。目前,主要采用恒流方式,也有采用恒功率方式的,采用恒压方式。另外,磁控溅射镀膜技术具有的一个显著优点是膜层致密、光洁度较好。要实现该优点,必须严格限制磁控溅射过程中靶表面的打火次数和每次打火的能量,尽量减少打火瞬间造成的宏观靶材粒子数量,它们会降低膜层的致密性和光洁度,严重时会造成掉膜。
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