光学多层镀膜设备
高真空光学多层镀膜设备采用e型电子蒸发源，环保纳米喷镀，可镀各种高熔点金属和氧化物材料。
可制备多种光学眼镜片、电学膜、超硬膜及装饰膜等。
配有光学膜厚控制系统，电控系统采用PLC控制，可实现手动、半自动和自动3种方式，。
光学多层镀膜设备是光学仪器、激光工业、眼镜行业等必需设备。
鼎益真空镀膜设备有：蒸发镀膜机、磁控溅射镀膜机 、磁控蒸发两用镀膜机 、多弧离子镀膜机 中频离子镀膜机 、AF镀膜机、超硬质涂层镀膜机、卷绕式镀膜机、PVD镀膜线、镀膜项目配套总成。
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真空蒸发镀膜机加工
真空蒸发镀膜机设备运行过程中，从膜材表面蒸发的粒子以一定的速度在空间沿直线运动，直到与其他粒子碰撞为止。在真空室内，当气相中的粒子浓度和残余气体的压力足够低时，这些粒子从蒸发源到基片之间可以保持直线飞行，否则，就会产生碰撞而改变运动方向。为此，增加残余气体的平均自由程，以减少其与蒸发粒子的碰撞几率，把真空室内抽成高真空是必要的。
当真空容器内蒸发粒子的平均自由程大于蒸发源与基片的距离(以下称蒸距)时，就会获得充分的真空条件。设蒸距(蒸发源与基片的距离)为L，并把L看成是蒸发粒子已知的实际行程，λ 为气体分子的平均自由程，设从蒸发源蒸发出来的蒸汽分子数为N0，在相距为L 的蒸发源与基片之间发生碰撞而散射的蒸汽分子数为N1，而且假设蒸发粒子主要与残余气体的原子或分子碰撞而散射，则有
N1/N0= 1- exp(L/λ) (1)
在室温(25℃)和气体压力为p(Pa)的条件下，残余气体分子的平均自由程为
λ = 6.65×10-1/pcm (2)
由上式计算可知，纳米喷镀技术，在室温下，小型纳米喷镀设备，p=10-2 Pa 时，λ=66.5 cm，纳米喷镀，即一个分子在与其它分子发生两次碰撞之间约飞行66.5 cm。
此类的传统工艺方式为在镀膜机里完成镀金属材料工序，再进行装夹在UV喷涂线上，喷上面油进行UV固化形成透明保护作用。技术参数表：TYG系列卧式电阻蒸发真空镀膜机型号TYG-1200TYG-1400TYG-1500TYG-1600TYG-1800TYG-2000TYG-2200真空室尺寸 Φ1200×1400MMΦ1400×1600MMΦ1500×1600MMΦ1600×1800MMΦ1800×2000MMΦ2000×2200MMΦ2200×2400MM真空机组KT630扩散泵机组双KT6300扩散泵机组双KT630扩散泵机组双KT630扩散泵机组双KT800扩散泵机组双KT1000扩散泵机组双KT1000扩散泵机组镀膜系统电阻蒸发源、硅油汽化装置镀膜辅助系统低温离子镀膜电源充气系统进口流量比例调节阀控制方式手动或全自动抽气速率5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min极限真空3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa3.0X10-4Pa备注以上设备参数仅做参考，具体均按客户实际工艺要求设计订做
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