氧化3抛光液分散剂1996A

一般来说，对抛光液的基本要求是磨粒均匀地悬浮分散在抛光液中，且具有足够的分布稳定性。所以在抛光之前有必要对抛光液进行过滤，滤掉磨料聚集产生的微量大尺寸磨料颗粒。然而，过滤并不能全部消除这种聚集现象，因为在抛光的实际过程中，工艺参数的变化会导致磨料的软聚集，从而影响工件表面的抛光效果 。因此，往往需要在抛光液中添加分散剂来提高抛光液的分散稳定性，以减少溶液中磨料粒子团聚。

特点：

添加分散剂1996的抛光液因其有效的分散作用可以降低抛光表面粗糙度和提高材料去除率，获得了 570.2nm/min材料去除率和表面粗糙度Ra1.076nm的抛光表面。

分散剂的质量浓度也会对抛光液的分散稳定性产生影响。若用量不足，则不能保证抛光液中磨料颗粒之间有足够有效的静电排斥，因而起不到分散稳定性作用;若用量过多，会导致整个分散体系产生气泡或聚凝，稳定性变差。

物化数据表

使用方法：1、本产品建议添加量为10-15%，对于特殊要求的应用可以适当增加添加量，针对具体工况，还需通过试验确定。2、与悬浮剂搭配使用，效果更佳。

运输与储存

  0℃以下贮存或运输时，可能发生分层或浑浊，使用前加热搅拌。本产品采用 200 Kg、1000 Kg 桶密封包装、运输。保质期为12个月，超过保质期后，应通过试验检测合格后方可使用。