氧等离子体处理后的PDMS，疏水处理玻璃，其表面引入了亲水性质的-OH基团，并代替了-CH基团，从而使PDMS表面表现出极强的亲水性质。同样，硅疏水处理，由于硅基底通过处理，表面含有大量Si-O键，在氧等离子体处理的过程中，Si-O键被打断，从而在表面形成大量的si悬挂键，通过吸收空气中-OH，形成了Si-OH键。将处理后的PDMS与硅表面相贴合，两表面的Si-OH之间发生如下反应:2Si-OH⑧Si-O-Si+2H2O。在硅基底与PDMS之间形成了牢固的Si-O键结合，从而完成了二者间不可逆键合。

现在大型火力发电厂均采用疏水逐级自流的方式，是利用各加热器间的压力差，让疏水自流入相邻的压力较低的加热器空间，后一台加热器的疏水逐级自流入排汽装置。

这种疏水方式简单可靠，但是热经济性差。这是由于压力较高的加热器的疏水流入压力较低的加热器蒸汽空间时要放出热量，从而排挤了一部分较低压力的回热抽汽量。

在保持汽轮机输出功率一定的条件下，势必造成抽汽做功减少，凝气循环的发电量增加，这样就增加了冷源热损失，江西疏水处理，尤其是疏水排入排汽装置时，将直接导致冷源热损失的增加。

在疏水逐级自流系统中，亲疏水处理，装设疏水冷却器可提高机组的热经济性。在疏水自流入下一级加热器之前，用一部分主凝结水在疏水冷却器，使进入下一级的疏水放热量减少，以减少由于排挤抽汽引起的冷源热损失。

还可以防止疏水在疏水管道中汽化而发生汽阻，影响正常疏水。疏水冷却器也可以放在加热器内部，成为疏水冷却段。在现代大型机组上，高低加中均采用疏水冷却段，以提高机组的热经济性。

硅是地壳中含量仅次于氢和氧的元素，它通常以化合物的形态存在于大自然中。现代，以硅为主的半导体材料已经是微电子信息产业和太阳能光伏产业主要的基础功能材料，在国民经济和工业中占有很重要的地位。硅片作为芯片的片基，在进行电路集成之前要进行一系列的准备工作。硅片的亲疏水处理就属于前期准备范畴。表面的浸润性与许多物理化学过程，如吸附、润滑、粘合、分散和摩擦等密切相关。

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