真空镀膜是不采用溶液或电能液而制备薄膜的一种干式镀膜方法。

在应用中大体可分为：真空沉积、等离子体沉积、离子束沉积、离子束辅助沉积、等离子体喷涂等。以上所述各种方法统称为物理气相沉积。所不同的是把液体或固体成膜材料运输在基材表面沉积或与其他活性气体反应形成反应物在基体上沉积为固相薄膜的物理方式。真空镀膜工艺除了对基材起到保护作用外还赋予基材不同的外观效果以此来丰富人们的审美。真空电镀作为真空镀膜工艺之一被广泛应用于诸多领域，而我们化妆品外包装行业也是此工艺的应用和推广者之一。如下图所示，所采用的方式多为高温蒸发真空沉积。

无论是哪种真空镀膜机镀制的薄膜，其均匀性都会遭到某种要素影响，如今咱们就磁控溅射真空镀膜机来看看形成不均匀的要素有哪些。

磁控溅射真空镀膜机的运作即是经过真空状况下正交磁场使电子炮击ya气构成的ya离子再炮击靶材，靶材离子堆积于工件外表成膜。如此咱们能够思考与膜层厚度的均匀性有关的有真空状况、磁场、ya气这三个方面。

真空状况就需要抽气体系来操控的，每个抽气口都要一起开动并力度共同，这么就能够操控好抽气的均匀性，假如抽气不均匀，在真空室内的压强就不能均匀了，耳机配件真空电镀哪里近，压强对离子的运动是存在必定的影响的。另外抽气的时刻也要操控，太短会形成真空度不够，耳机配件真空电镀哪里好，但太长又浪费资源，耳机配件真空电镀，不过有真空计的存在，要操控好仍是不成问题的。

真空电镀工艺可能遇到的问题及对策

3.真空室内残余气体压力对膜层的影响

真空室内残余气体的压力对膜性能的影响较大。压力过高残余气体分子不但已与蒸发粒子碰撞使其入射到基片上的动能减小影响膜的附着力。而且，过高的残余气体压力还会严重影响膜的纯度，使涂层的性能降低。

4.蒸发温度对蒸发涂层的影响

蒸发温度对膜性能的影响是通过蒸发速率随温度变化而表现出来。当蒸发温度高时，汽化热将减小。如果膜材在蒸发温度以上进行蒸发时，即使是温度稍有微小的变化，也可以引发膜材蒸发速率的急剧变化。因此，在薄膜的沉积过程中采取准确的控制蒸发温度，避免在蒸发源加热时产生大的温度梯度，对于易于升华的膜材选用膜材本身为加热器，进行蒸镀等措施也是非常重要的。

5.基体与镀膜室的清洁状态对涂层性能的影响

基体与镀膜室的清洁程度对涂层的性能影响是不可忽略的。它不仅会严重影响沉积膜的纯度，而且也会减小膜的附着力。因此对基体的净化对真空镀膜室及室内的有关构件（如基片架）进行清洁处理和表面去气均是真空镀膜工艺过程中不可缺少的过程。

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