真空电镀工艺的整个工艺过程都是在高真空状态下在设备腔体内完成，横沥真空电镀，所以通常只要设备设定参数与工艺要求相吻合时通常良品率会很高，但偶有操作不当也会产生，下面介绍几种现场品控的方法以供参考。

（1）目视法

目视法主要是通过观察电镀成品与样件膜层外观来品控产品的方法，虽然简单却又是不可或缺的，不同的膜材在经过真空电镀后会表现出不同的颜色，不同的质感，如铝的亮白、锡的黑灰、铬的q黑、在工艺完成后都会呈现在基材表面。所以当出现电镀成品的膜层外观与样件膜层外观不符时，真空电镀加工价格，首先要确定的是膜材是否置放正确，其次是确定工艺参数是否与该工艺相吻合，确定是否有操作不当。

（2）百格法

百格法即用百格刀或美工刀在膜层表面划出大约100个1mm见方的小格然后用胶带粘定后测试膜层与基体附着成度的方法。测定法方如下：

a) 首先在膜层表面用百格刀划出10*10个1mm见方的的网格，网格要穿透膜层。

b) 用相应胶带轻轻附在百格表面，并用手指覆压赶出二者之间气泡，然后静置1分钟，左手握住测试样品，右手食指和拇指捏住胶带一端，以与基材表面90度角的力迅速拉起胶带，反复三次以没有膜层脱落为合格。

（3）电流测定法

电流测定法主要针对于不导电金属和合金膜的测定，通过测定膜层表面电流来检测镀膜产品是否合格。

测定方法是：在膜层表面相距1cm的距离分别放置电流表的两个探头，打开电流表，观察电流表指针的情况。然后根据工艺要求来确定膜层是否合格。此种方法不仅可以检测所镀膜层是否是所需膜层，还可以根据电流情况来判断膜层厚度是否满足工艺要求。

真空镀膜和光学镀膜的原理和区别

1、真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法。

2、光的干涉在薄膜光学中广泛应用。光学薄膜技术的普遍方法是借助真空溅射的方式在玻璃基板上涂镀薄膜，一般用来控制基板对入射光束的反射率和透过率，以满足不同的需要。为了消除光学零件表面的反射损失，提高成像质量，涂镀一层或多层透明介质膜，称为增透膜或减反射膜。

因镀膜机在真空状态下蒸发靶材生成镀层，故将此制程称为真空电镀。

真空电镀原理：其过程是在真空条件下，采用低电压、高电流的方式将蒸源通电加热，靶材在通电受热的情况下分散到工件表面，并以不定形或液态状沉积在工件表面，冷却成膜的过程

真空镀膜的镀层结构一般为：基材、底漆、真空膜层、面漆，因靶材理化特性直接决定膜层的特性，真空电镀哪里好，根据膜层的导电与否，可分为导电真空镀膜（VM）和不导电真空镀膜（NCVM）两种。

VM：一般用在化妆品类、NB类、3C类、汽配类按键、装饰框、按键RING类饰品的表面处理，其表面效果与水电镀相媲美，靶材一般为铝、铜、锡、金、银等。

NCVM：具有金属质感、透明，但不导电，一般用在通讯类、3C类对抗扰要较高的机壳、装饰框、按键件、RING类饰品的表面处理，其表面效果为水电镀不可取代，靶材一般为铟、铟锡。

膜层结构分布

基材：ABS、PC、ABS、PP、PPMA、POM等树脂类均可成型真空电镀，要求底材为纯原料，真空电镀哪里近，电镀级别更佳，不可加再生材;

底漆：UV底漆，对基材表面做预处理，为膜层的附著提供活性界面，底漆厚度一般在5-10um，特殊情况可酌情加厚;

膜层：靶材蒸发的结果，VM膜层可导电，NCVM镀层不导电，且抗干扰性效果很好，膜层厚度0.3um以下。

面漆：面漆利用三基色原理可与色浆搭配出各类顏色，同時对真空膜层起保护作用，再加上UV、PU的表面装饰，效果更漂亮，厚度 一般在8-10um，特殊情況可酌情加厚 。

面漆颜色多变效果机理：利用三基色原理将面漆与色浆混合调试达成.

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