不同类型的电离室构造

不同类型的电离室构造大致分为两种：一种是平板电离室，一种是圆柱型电离室。如下图所示：左侧为平板电离室，右侧为圆柱型电离室。电离室内电子和正离子的漂移，矩阵电离室厂家，使得两电极上感生的电荷发生变化，从而形成电压或电流脉冲。这种脉冲始于离子对生成，矩阵电离室，终于离子对全部被收集。必须指出：不能以为脉冲是由电子和离子被收集到电极上才形成的，矩阵电离室公司，这是不符合实际的。

电离室的数目

脉冲的变化率取决于漂移速度。电子的漂移速度约比正离子大三个量级，这就决定了在t≤x0/v-时间内，脉冲前沿主要是电子脉冲的贡献。它构成脉冲的快成份，幅度与电离产生的地点有关。在x0/v-≤t -≤(d-x0)/v+时间内，主要是离子脉冲的贡献，这是脉冲的慢成分。但是输出的电压幅度只决定于原电离的总数目，与电离产生的地点无关。

电离室分类

由一个空腔构成的电离探测器，腔内充有合适的气体，腔内的电场用来收集电荷以及伴随电离辐射在探测器灵敏体积中产生的离子或电子，其电场不会引起气体倍增现象。电离室是辐射测量的主力。含有一个或几个灵敏体积并且适合于入射辐射束透射的电离探测器，而其对辐射束的影响可忽略不计。用于剂量监测的就是透射电离室。

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