随着半导体工艺的不断发展，对半导体表面平整度和光泽度的要求越来越高，传统的机械抛光技术已经不能满足需求。抛光设备作为一种新兴的表面处理技术，具有、、无污染等优点，在半导体行业中的应用前景广阔。抛光设备不仅可以用于晶圆的表面抛光和去除氧化物，还可以用于半导体器件的表面平整化和去除残留物等方面，具有重要的应用价值。

等离子也称为物质的第四态，是一种电磁气态放电现象，使气态粒子部分电离，这种被电离的气体包括原子、分子、原子团.离子和电子。等离子就是在高温高压下，抛光剂水溶，在高温高压下，电子会脱离原子核而跑出来，原子核就形成了一个带正电的离子，当这些离子达到一定数量的时候可以成为等离子态，等离子态能量很大，当这些等离子和要抛光的物体摩擦时，项刻间会使物体达到表面光亮的效果。抛光一次会导致工件向上的部分效果会会稍微差一些、所以需要抛两次、就是把效果稍差的一面翻转180°、再做一次、即可做到均匀。

等离子是物质的第四态，它的存在需要具备一定的条件、需要有电场、需要有被离化的物质，在物理学来说就是分子周围的电子是齐的、化学键牢固反应到外面是稳定不带电的，但外有电场的存在、会让分子周围的电子在电场的作用下、跑出来带上电荷形成不稳定的离子、离子还会在电场作用下，随着电场的方向做定向移动、数量多了就形成离子流。八溢自动化生产的等离子抛光设备就是利用离子原理来工作的，可以去毛刺、抛光、十分、无死角。