曝光显影是将贴好膜的板进行曝光，透光的部分被固化，没透光的部分还是干膜。然后经过显影，褪掉没固化的干膜，将贴有固化保护膜的板进行蚀刻。再经过退膜处理，这时内层的线路图形就被转移到板子上了。其整个工艺流程如下图。

对于设计人员来说，我们主要考虑的是布线的线宽、间距的控制及布线的均匀性。因为间距过小会造成夹膜，充电宝标牌曝光显影工艺，膜无法褪尽造成短路。线宽太小，膜的附着力不足，造成线路开路。所以电路设计时的安全间距（包括线与线、线与焊盘、焊盘与焊盘、线与铜面等），充电宝标牌曝光显影，都必须考虑生产时的安全间距。

东莞市清溪利成感光五金厂本厂主要做曝光显影工艺，平面、圆弧面、凹凸面、喷砂1氧2氧阳极、五金丝印.五金腐蚀等产品加工，有多年经验，有需要以上的工艺欢迎您的到来参观和洽谈，可免费打。

曝光显影工艺参数：

贴膜辊温度:100?度－110?度

贴膜机速度:1.6-2.0M/MIN?

曝光显影注意事项:?

整个贴膜程序必须在暗房中进行。

开启干膜箱必须在暗房中进行，干膜必须储在暗房中。

不合格的贴膜板需去膜刷板后重新贴膜，充电宝标牌曝光显影公司，并在曝光之前放置15分钟。

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蚀刻：蚀刻(etching)是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。蚀刻的原理是氧化还原反应中的置换反应：2AgNo3+Cu=Cu(No3)*2+2Ag。利用蚀刻液与铜层反应，蚀去线路板上不需要的铜，得到所要求的线路。蚀刻技术可以分为湿蚀刻(wet etching)和干蚀刻(dry etching)两类。

曝光：经光源作用将原始底片上的图像转移到感光底板（即PCB）上。

蚀刻曝光就是通过曝光制版、显影后，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。

显影：显影是在印刷、影印、复印、晒图等行业中，让影像显现的一个过程。通过碱液作用，将未发生光聚合反应之感光材料部分冲掉。显影包括正显影和反转显影。

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