四氟化碳公司-四氟化碳-谱纯气体|纯度高(查看)





'四氟化碳在不同的大气压下呈现的状态是不同的,四氟化碳公司,就像氧气在101kPa时会呈现出液态。四氟化碳是无色、无臭、不燃的可压缩性气体,发挥性较高.四氟化碳也一样,比如我们公司生产的钢瓶装四氟化碳在14MPA的气压下也是液态的,在正常大气压下就是气态的,四氟化碳是有一定毒性的应该不能用作呼吸。四氟化碳的密度比较高,可以填满地面空间范围,在不通风的地方会导致窒息。四氟化碳成品应存放在阴凉,干燥,通风的库房内,严禁曝晒,远离热源。






在填有氢氧化铬的高温镍管中进行,反应后的气体经水洗、碱洗除去酸性气体,再通过冷冻,用硅胶除去气体中的水分,经精馏而得成品。四氟化碳(CF4)在电离后会产生含成分的刻蚀性气相等离子体,能够对各种有机表面实现刻蚀及有机物去除,在晶圆制造、线路板制造、太阳能电池板制造等行业中被广泛应用。在范围内,高纯度四氟化碳应用于欧洲、亚太地区、北美、中东、非洲和南美洲等地区,受电子产业发展程度不同影响,对于高纯度四氟化碳的需求也不同,四氟化碳,亚洲地区由于电子产业发展落后,近几年电子电器行业处于快速发展状态,因此使得该地区的高纯度四氟化碳消费量持续攀升。


四氟化碳是一种卤代烃,高浓度四氟化碳,化学式CF4。它既可以被视为一种卤代烃、全氟化碳,也可以被视为一种无机化合物。零下198 °C时,四氟化碳具有单斜的结构,晶格常数为a = 8.597, b= 4.433,四氟化碳生产, c = 8.381 (.10-1?nm), β = 118.73° 。高纯四氟化碳主要用于集成电路、半导体的等离子刻蚀领域,可用来蚀刻硅、二氧化硅、氮化硅等硅材料,是用量大的等离子蚀刻气体。此外,高纯四氟化碳还可用于印刷电路板清洁、电子元器件清洗、太阳能电池生产等领域。四氟化碳的溶氧性很好,因此被科学家用于超深度潜水实验代替普通压缩空气。目前已在老鼠身上获得成功,在275米到366米的深度内,小白鼠仍可安全脱险。


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