大宗特气供气系统介绍

大宗特气供气系统主要针对大规模量产的8-12英寸（1英寸=25.4毫米） 超大规模集成电路厂（气体种类包括SiH4、N2O、2、 C2F6、 NH3等），100MW以上的太阳能电池生产线（气体种类包括NH3），发光二极管的磊晶工序线（气体种类包括NH3）、5代以上液晶显示器工厂（气体种类包括4、3、NF3）、光纤（气体种类包括SiCl4）、硅材料外延生产线（气体种类包括HCL）等行业。它们的投资规模巨大，采用1的工艺制程设备，用气需求量大，对稳定和不间断供应、纯度控制和安全生产提出严格的要求。

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实验室气体的危险性

1.有部分气体具有毒、强腐蚀等特性，其一旦泄漏，就可能会对工作人员及仪器设备造成伤害；

2.多种气体在同一个环境下使用，高纯供气系统，如果有两种会发生燃烧或爆1炸等强烈化学反应的气体同时泄漏，就可能对工作人员以及仪器设备造成伤害；

3.多数气瓶出口压力1高可达15MPa，即150公斤/cm2，如果发生气瓶口减压装置失灵，就有可能将一些部件激1射出去，其能量对人体或设备都具有致命性的伤害。

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电子特气管道系统氦检漏方法

特气系统气体管道氦检漏的顺序宜采用内向检漏法、阀座检漏法、外向检漏法。

1、内向检漏法(喷氦法)采用管道内部抽真空，外部喷氦气的方法检漏，测试管路系统的泄漏率。

2、阀座检漏法采用阀门上游充氦气，下游抽真空的方法检漏，测试管路系统的泄漏率。

3、外向检漏法(吸法)应采用管路内部充氦气或氦氮混合气，外部应采用吸检查漏点的方法检漏，测试管路系统的泄漏率。

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