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pvd镀膜机与您分享PVD镀膜工艺离子镀(Ion Plating)

PVD镀膜涂层工艺中的为离子镀膜方式；此方法是利用电弧撞击靶材，使靶材原子被激发出来，pvd镀膜机厂家，与反应性气体反应，形成化合物沉积于工件表面的一种技术。炉内运行至高真空后，通入惰性气体，加偏压造成离子(Ar+)，真空pvd镀膜机，及带负电的电子(e-)，带正电的离子会撞向通入偏压为负极的基板底材，来清洁工件表面；之后再通入反应气体，在靶材和基板底材间产生电浆，进行镀膜作业。此一方式成膜速度快、密著性较佳，多用于切削刀具镀膜涂层处理。

大部分企业都采用的阴极电弧法(cathode arc)进行镀膜作业。与其他方式相比，此种方式拥有较多的离化率、均匀的附着性，大多被应用在金属的硬质镀膜上，特别是要求耐磨耗的物件。

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pvd镀膜机与您分享真空镀铝工艺有哪些常见的问题？

薄膜表面出现褐色条纹

原因： ①真空度低　解决方法：清洁真空室内的送铝、蒸镀装置、冷却系统、放卷、卷取装置及导辊；检查抽真空系统；降低环境湿度。

②薄膜释放气体。解决方法：薄膜预干燥；延长抽真空时间。

③喷铝过多。解决方法：提高车速；降低蒸发舟电流；降低送铝速度。

④蒸发舟内有杂质。解决方法：清洁蒸发舟及热屏蔽板。

⑤蒸发舟老化。解决方法：更换蒸发舟。

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pvd镀膜机与您分享真空镀膜随着PVD镀膜技术应用的迅速推广，pvd镀膜机，吸引了国内外们和相关企业积极研发，至今无论是PVD沉积技术、PVD的制备工艺，还是PVD设备配套装备与部件，都有了长足的进步。

1.冷阴极电弧 阴极电弧技术是在真空条件下，通过低电压和高电流的弧光放电将靶材气化、离化成等离子体状态，从而实现薄膜材料的沉积。近阴极电弧蒸发源有新的发展，主要是通过有效强制冷却和电磁场的设计，在两者共同作用下，使靶材的离化率更高，薄膜性能更加优异。

2.磁过滤阴极弧 配以的电磁过滤系统，将电弧产生的等离子体中的中性宏观粒子、分子团等大颗粒过滤干净，经磁过滤后沉积粒子的离化率达100%，因此制备的薄膜非常致密和平整光滑，具有抗腐蚀性能好，与基体的结合力更强。

3.柱状或平面状大面积电弧源 保证高离化率的同时，减少大颗粒沉积的比例，达到既有好的附着力，pvd镀膜机价格，又有较好的表面光洁度效果。

4.中频磁控溅射 增加离化率，减少电荷积累引起的异常放电，预防靶表面现象，沉积工艺更稳定。

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