显影过程中值得注意的问题

A、显影干净程度：可用修版膏检查空白地方，用密度计测量应（0.011（一般在0.005以下）

B。显影后的留膜率：可用密度计来衡量（显影前后密度的比值应在85%以上）

C、版面的明显问题：条纹（制版可能引起）当曝光显影不足时可能引起显影不均匀（显影机可能引起）

D、其它问题：粘脏（辊子太脏可能引起，注意清洁辊子） ；擦伤（砂粒、压力、毛刷、导轨，也可能由取版造成） ；保护胶（清洗及更新） ；水洗是否充分，铭牌曝光显影哪家好，液体是否循环；设备的日常维护状态（干净程度，是否有日常维护程序） 

当液温达到21℃以上时，铭牌曝光显影厂家，定影液中一般要加入坚膜剂，以防止乳剂层被破坏。坚膜剂有：钾钡[A12 (S04) 3K2S04:24H20]、铬矾[Cr2 (S04)3K2S04-24H20]和甲醛（HCHO) 。甲醛的坚膜作用强，铬矾次之，钾矾的作用较弱。采用时应根据液温情况选用，通常使用钾矾和铭矾。因甲醛有毒，泰州铭牌曝光显影，只有特殊情况才采用它。

当定影完毕后，总要用干净的水冲洗净胶片上余存的定影液。水洗的目的是要影像膜层内所含的硫酸钠及其它可溶性盐。如果水洗不则残存的硫酸钠日久分解出硫而使底片变黄。通常水洗时间在流水盆内不少于半小时。水洗完毕，可将底片悬挂在无尘处晾干或风干，严禁用烘烤的办法使其脱水，铭牌曝光显影生产厂家，以免引起胶片变形。

径向误差补偿方法。在PMD1000设备中，显影液是通过安装在腔体上方的喷嘴以扇形喷洒到掩模版上。当掩模版处于低位置时，喷嘴角度被调整到对准掩模版中心。在掩模版旋转过程中，掩模版中心一直处于新鲜显影液覆盖范围，因此掩模版中心位置的显影程度会高于周边位置，从而造成中心CD比周边大。如果径向误差分析显示这种情况，需要通过调整掩模版显影高度来对周边进行补偿。

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