缓蚀阻垢剂的作用机理的实现也是源于它的本身，它是含氮有机多元酸，属阴极型缓蚀剂，与无机聚磷酸盐相比，缓蚀率高3~5倍。能与水混溶，无1毒无污染，化学稳定性及耐温性好，在200℃下仍有良好的阻垢效果。缓蚀阻垢剂在水溶液中能离解成8个正负离子，因而可以与多个金属离子螯合，形成多个单体结构大分子网状络合物，松散地分散于水中，使钙垢正常结晶被破坏。EDTMPS对硫酸钙、硫酸1钡垢的阻垢效果好。

有机系列阻垢剂

　　ATMP具有良好的螯合、低限抑制及晶格畸变作用。可阻止水中成垢盐类形成水垢，特别是碳酸钙垢的形成。ATMP在水中化学性质稳定，不易水解。在水中浓度较高时，有良好的缓蚀效果。

　　HEDP是一种有机酸类阻垢缓蚀剂，能与铁、铜、锌等多种金属离子形成稳定的络合物，能溶解金属表面的氧化物。在250℃下仍能起到良好的缓蚀阻垢作用，在高pH下仍很稳定，不易水解，一般光热条件下不易分解。耐酸碱性、耐氯氧化性能较其它有机酸（盐）好。

　　EDTMPS是含氮有机多元酸，属阴极型缓蚀剂，与无机聚磷酸盐相比，缓蚀率高3~5倍。能与水混溶，无1毒无污染，化学稳定性及耐温性好，在100℃下仍有良好的阻垢效果。EDTMPS在水溶液中能离解成8个正负离子，因而可以与多个金属离子螯合，形成多个单体结构大分子网状络合物，松散地分散于水中，使钙垢正常结晶被破坏。EDTMPS对硫酸钙、硫酸1钡垢的阻垢效果好。

　　EDTMPA具有很强的螯合金属离子的能力，与铜离子的络合常数是包括EDTA在内的所有螯合剂中较大的。EDTMPA为高纯试剂且无1毒，在电子行业可作为半导体芯片的清洗剂用于制造集成电路；在医1药行业作放i射性元素的携带剂，用于检查和治1疗疾病；EDTMPA的螯合能力远超过EDTA和DTPA，几乎在所有使用EDTA作螯合剂的地方都可用EDTMPA替代。

　随着我们生活水平的提高，人们开始关注自己的健康问题，因此对水质的要求越来越高，这个时候缓蚀阻垢剂就发挥了非常重要的作用，冷却循环水处理药剂，我们一起去了解一下吧。

　　缓蚀阻垢剂的分散性能与很多因素有关，主要影响因素是载体聚乙烯醇与混溶性能、加入的阻垢剂种类、水流速、水温、阻垢剂与水接触面积等。保持有效的传热。控制腐蚀，延长设备寿命，减少维修和更换费用。控制污垢沉积，减少设备清洗停车时间。不含铬酸盐，改善冷却塔排放污水的水质，减少环境污染。

　　缓蚀阻垢剂的分散性能通过分散速度体现，分散速度的测定方法是测量加人循环模拟试验设备前阻垢药剂的质量m1，循环模拟后阻垢药剂的质量m2。循环十天阻垢剂的变化量为11.09，阻垢剂在75℃、污水量、表面积12.56.CM2、凝固程度达到很硬时的分散速度V为5.59mg/h.cm2。

　　因配方具有分散、阻垢、缓蚀三个功能。故虽在碱性条件下运行，换热器表面局部腐蚀减少。与季铵盐类杀菌剂能复合使用，不产生沉淀，不影响药的效果。以上就是今天的所有内容了，感谢您对我们网站的支持。如果您还有什么问题，欢迎拨打我们的热线。

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