真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，厚街派瑞林涂层，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得，它利用某种物理过程，如物质的热蒸发，或受到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。

镀材范围广，由于溅射镀膜是通过离子的高速轰击使镀材溅射出来的，当然这个厚度是在可允许的范围内，而且控制好电流，无论重复镀多少次，膜层厚度都不会变化，膜厚的稳定性可归结为膜厚良好的可控性和重复性。不像五金电镀加工由于熔点的原因而限制只能使用熔点比较低的镀材，而溅射镀膜固体的物质都可以成为镀材。

高真空离子镀是常见的塑胶产品电镀技术中的目前市场新兴兴起的一种技术。高真空离子镀，又称高真空镀膜加工。如今高真空电镀的做法现在是一种相来说比较盛行的一种做法，做出来的商品金属质感强，表面亮度高.而相对别的的镀膜法来说，金属配件派瑞林涂层，成本较低，对环境的污染小，可选择原料种类多，这也是近年来一些电镀加工厂比较推崇的镀膜电镀技术。

实践证明，电子束钢带真空镀膜具有很多优点：

（1）可选择的镀膜材料多而不受材料熔点限制。能量密度很高的电子束可以使镀膜材在很短的时间达到3000℃~6000℃。因此，除了热镀锌中常见的镀锌、铝、锡之外，几乎所有的金属材料都可以蒸镀，还可镀种类众多的金属氮化膜，金属氧化膜和金属炭化物及各种复合膜。这为发展新型带钢材料提供了很大的自由度。

（2）镀膜材料利用率高，环境污染小。真空镀膜属干式镀膜，没有有害液体、气体的产生。

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