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  金属硅粉是一种以硅元素为主要成分的粉末状物质,化学性质相对稳定,不易与酸、碱等物质发生反应。金属硅粉具有高纯度、高密度、高导热性等特点,同时具有优良的电绝缘性能和耐高温性能。

  金属硅粉的制备方法有多种,其中常用的是化学气相沉积法(CVD)。该方法是在高温下将含硅的化合物蒸气通过反应室,使其与反应室内的衬底材料(如石墨、陶瓷等)发生化学反应,锂电负材硅批发,生成硅单质并沉积在衬底上,得到金属硅粉。此外,还有物理气相沉积法(PVD)、电解法等制备方法。







半导体硅材料(semiconductor silicon)是主要的元素半导体材料,包括硅多晶、硅单晶、硅片、硅外延片、非晶硅薄膜等,可直接或间接用于制备半导体器件。硅为周期表中Ⅳ族元素。在地壳中主要以二氧化硅和硅酸盐形式存在。丰度为27.7%,次于氧。硅的原子量为28.05,25℃下密度为2.329g/cm3,具有灰色金属光泽,较脆,硬度6.5Mohs,稍低于石英。





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