磁控溅射是70年代在阴极溅射的基础上发展起来的一种新型溅射镀膜法，真空不锈钢镀钛选哪家，由于它有效地克服了阴极溅射速率低和电子使基片温度升高的致命弱点，因此获得了迅速的发展和广泛的应用.

1. 磁控溅射:

离子轰击靶材将靶面原子击出的现象称为溅射.溅射产生的原子沉积在基体(工件)表面即实现溅射镀膜.

磁控溅射的基本原理:

磁控溅射是在溅射区加了与电场方向垂直的磁场，处于正交电场区E和磁场B中的电子的运动方程，

点可蒸发任何材料薄膜纯度高直接作用于材料表面，热

缺点电子结构复杂，造价高化合物沉积时易分解，化学比失调

3激光蒸发镀膜

采用高能激光束对材料进行蒸发，用以形成薄膜的方法，金属不锈钢镀钛选哪家，一般称为激光蒸镀。

优点薄膜纯度高蒸发速率高特别适合蒸发成分复杂的合金或化合物，膜层的化学计量比与靶材保持一致

缺点

    易产生微小颗粒飞溅，影响薄膜质量

射频溅射

采用射频电源代替直流电源，在靶和衬底间施加高频电压，溅射时，靶极会产生自偏压效应（即靶极会自动处于负电位状态），使绝缘靶的溅射得到维持。常用的频率约为13.56兆赫。

优点可以溅射所有材料，包括导体和绝缘体溅射可大规模生产

磁控溅射

磁控溅射通过在靶阴极表面引入正交电磁场，许昌不锈钢镀钛选哪家，把二次电子束缚在靶表面，成螺旋状运行来增强电离效率，增加离子密度和能量以增加溅射率。电源方面可同时配备直流和射频两种。

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