半导体设备及材料需要检漏原因

1、半导体设备要求高真空，比如磁控溅射台、电子束蒸发台、ICP、PECVD等设备。出现泄漏就会导致高真空达不到或需要大量的时间，耗时耗力；

2、在高真空环境洁净度高、水蒸气很少。一旦出现泄漏周围环境中的灰尘和悬浮颗粒或尘埃就会对晶元造成污染，对半导体的特性改变并破坏其性能，因此在半导体器件生产过程中必须进行氦质谱检漏；

3、一些半导体设备要用到有毒或有腐蚀性的特殊气体，经过氦质谱检漏后，在低漏率真空条件下，这些气体不易外泄，设备能及时抽走未反应气体和气态反应产物，蒸发器氦检漏报价，保障工作人员安全和大气环境。

4、芯片封装，一旦出现泄漏，芯片就会失效。

真空箱式氦检漏设备

适用对各类被检要求气密性漏率的产品（以下简称工件）进行真空法检漏。同步对工件和真空箱抽真空，使工件内外压差不大0.04Mpa，对被检工件充注氦气，应用真空箱法进行氦质谱气密性检测，电子器件氦检漏报价，通过该装置判断出被检工件中的合格与不合格。然后将被检工件内的氦气回收循环使用，向工件内充入规定压力的SF6工作气体。系统严格按照客户的要求设计制造，采用模块化的设计，充分考虑客户的检漏要求，同时也尽可能采用标准化的模块和部件，保证了系统的可靠性和可维护性。设备适应用电力行业，家用空调，制冷行业，汽车行业，新能源行业的气密性检测、应具有气体充注。大漏判定功能，微漏定量检漏功能，工件泄漏总的判定功能，并能满足连续生产的需求，具有较高的自动化程度，操作简便、可靠、安全。

氦质谱检漏原理

氦质谱检漏技术是以无色、无味的惰性气体氦气为示踪介质、以磁质谱分析仪为检测仪器，用于检漏的一种检测技术，它的检漏灵敏度可达10-14～10-15Pa?m3/s，可以准确确定漏孔位置和漏率。氦质谱检漏仪主要由质谱室、真空系统组件和电子学控制元件三大部分组成。质谱室接在分子泵的高真空端，入口接在分子泵和机械泵之间，利用分子泵对不同气体具有不同压缩比的特点，氦气逆着分子泵的抽气方向进入质谱室。检漏仪在质谱室中将气体电离，这些离子在加速电场的作用下进入磁场，在洛伦兹力作用下发生偏转，由于不同荷质比的离子具有不同的电磁学特性，偏转半径各不相同，在挡板的作用下，氦检漏仪的收集板只允许带正电的氦离子被接收到，单位时间到达收集板的氦离子对应于一个电流信号，这个电流信号正比于进入到达收集板氦离子的数量，电流信号经过放大后显示在质谱仪的显示面板上，其大小反映了泄漏点的漏率，通过泄漏率大小来确定该位置泄漏程度的大小。

氦质谱检漏仪的示踪气体选用氦气，是因为氦气具有以下优良特性：

①氦气在空气中的含量少，体积含量为5.24×10-6，如果氦气在环境中的含量超过标准，可以比较容易地探测到极微量的氦气；

②氦分子小、质量轻、易扩散、易穿越漏孔、易于检测也易于清除；

③氦离子荷质比小，易于进行质谱分析；

④氦气是惰性气体，氦检漏报价，化学性质稳定，不会腐蚀和损伤任何设备；

⑤氦气无毒，不凝结，极难容于水。

今天科创真空小编和大家分享的是氦质谱检漏的工作原理，希望对您有所帮助！

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