超声波清洗历史发展

技术早出现于20世纪30年代早期，当时，位于美国新泽西州的美国无线电公司的一个实验室中的技术人员尝试用自制的简陋超声波清洗系统清洗某些物体，半导体晶圆清洗报价，但试验未获成功。在此基础上，超声波清洗技术在20世纪50年代有了很大的发展，当时使用的超声波工作频率在20～ 40 kHz之间。该范围内的超声波被应用在数千种不同的工作场合下，其中许多是别的清洗手段不能很好发挥作用的场合。超声波可以对工件施加非常巨大的能量，尤其适用于清除牢固地附着在基底上的污垢。然而在某些情况下，超声波强大的能量也会损伤粘有污垢而性质脆弱的基底材料。在过去的十几年中，超声波领域中出现了一些技术革新，提高了清除敏感基底上的污物的安全系数。在此期间，超声波技术，特别是中高频超声波清洗技术有了新的发展，并成为行业的亮点。近年来，半导体晶圆清洗公司，人们发现用兆声波(根据超声波的频率不同，把40 kHz及其以下的称为常规或低频超声波，把1 000 kHz以上的称为高频超声波，又称兆频超声波，简称兆声波)清洗可以去除掉半导体材料表面上的超细污垢微粒，并且不会损伤基底材料的表面。目前这项技术已经得到了很快的普及。

超声波清洗新发展

随着应用范围的扩大，超声波清洗技术也有了新的发展。传统的超声波清洗设备由于自动化程度不高而难以保证零件清洗的均匀性，近年来逐渐出现了自动化程度高、灵活性强的自动化超声波清洗设备。不但实现了超声波清洗的自动化控制和批量作业，还稳定了清洗工艺、提高了清洗质量。这类超声波清洗设备将超声波清洗和化学清洗、漂洗、脱水、烘干等工艺结合，因而有非常高的清洗效率。在传动、烘干、清洗方面通常使用PLC控制，实现了清洗过程的全自动化。

喷淋式兆声喷头产品概述

兆声清洗是利用兆赫兹级别的超高频超声波能量去进行基材表面亚微米级颗粒的去除以及化学反应。相比于低频超声波空化效应，半导体晶圆清洗哪家好，兆声波空化效应可清楚更小的颗粒并且大幅降低对基材的损伤。东方金荣提供多种类型的兆声系统以用于CMP化学机械抛光、键合前清洗、掩膜清洗、显影、去胶、金属剥离、湿法刻蚀等多种领域。    Siansonic（东方金荣）喷淋式兆声清洗喷头的特点及优势单点喷淋式兆声清洗，相比传统槽式清洗，可解决清洗液二次污染问题。极低的超声空化效应，吉林半导体晶圆清洗，不会对器件表面造成损伤超高清洗精度，可去除物体表面0.2微米的污渍颗粒非金属腐材质，适应各种酸碱及石英或蓝宝石匹配层技术，无杂质脱落到器件上的风险的换能器贴合技术，更高的稳定性和耐久性

第三代半导体技术的兆声发生器，实现数字化高频大功率驱动。

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